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1. WO2021246449 - COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POSITIVE, ET PAROI DE SÉPARATION D'ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE

Numéro de publication WO/2021/246449
Date de publication 09.12.2021
N° de la demande internationale PCT/JP2021/021047
Date du dépôt international 02.06.2021
CIB
G03F 7/004 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
G03F 7/039 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
039Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
H05B 33/02 2006.1
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
BCHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33Sources lumineuses électroluminescentes
02Détails
H05B 33/12 2006.1
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
BCHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33Sources lumineuses électroluminescentes
12Sources lumineuses avec des éléments radiants ayant essentiellement deux dimensions
H01L 51/50 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
H05B 33/22 2006.1
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
BCHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33Sources lumineuses électroluminescentes
12Sources lumineuses avec des éléments radiants ayant essentiellement deux dimensions
22caractérisées par la composition chimique ou physique ou la disposition des couches auxiliaires diélectriques ou réfléchissantes
CPC
G03F 7/004
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
G03F 7/039
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
H01L 51/50
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
51Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
50specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED]
H05B 33/02
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
33Electroluminescent light sources
02Details
H05B 33/12
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
33Electroluminescent light sources
12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
H05B 33/22
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
33Electroluminescent light sources
12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
22characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers
Déposants
  • 昭和電工株式会社 SHOWA DENKO K.K. [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 新井 良和 ARAI, Yoshikazu
  • 倉本 拓樹 KURAMOTO, Hiroki
  • 西澤 尚平 NISHIZAWA, Shohei
Mandataires
  • 青木 篤 AOKI, Atsushi
  • 三橋 真二 MITSUHASHI, Shinji
  • 高橋 正俊 TAKAHASHI, Masatoshi
  • 胡田 尚則 EBISUDA, Hisanori
  • 河原 肇 KAWAHARA, Hajime
Données relatives à la priorité
2020-09690503.06.2020JP
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PARTITION WALL OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POSITIVE, ET PAROI DE SÉPARATION D'ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) ポジ型感光性樹脂組成物、及び有機EL素子隔壁
Abrégé
(EN) Provided is a high-sensitivity photosensitive resin composition that has improved process stability and contains a black colorant. This positive photosensitive resin composition includes: a resin blend (A2) that includes a resin (a2-1) having a plurality of phenolic hydroxyl groups, X mol% (where X is a real number greater than 0) of the plurality of phenolic hydroxyl groups being protected by an acid-degradable group (4), and a resin (a2-2) having a plurality of phenolic hydroxyl groups, Y mol% (where Y is a real number greater than 0) of the plurality of phenolic hydroxyl groups being protected by the same acid-degradable group (4); at least one type of colorant (B) selected from the group consisting of black dyes and black pigments; and a photoacid generator (C), wherein Y – X ≥ 10.
(FR) L'invention fournit une composition de résine photosensible de sensibilité élevée présentant une meilleure stabilité de processus, et comprenant un colorant noir. Plus précisément, l'invention concerne une composition de résine photosensible positive qui contient : un mélange de résine (A2) ; au moins une sorte de colorant (B) choisie dans un groupe constitué d'une teinture noire et d'un pigment noir ; et un générateur de photoacide (C). Lequel mélange de résine (A2) contient à son tour : une résine (a2-1) qui possède une pluralité de groupes hydroxyle phénoliques, X% en moles (X est un nombre réel supérieur à 0) de ladite pluralité de groupes hydroxyle phénoliques étant protégés par un groupe décomposable en milieu acide (4) ; et une résine (a2-2) qui possède une pluralité de groupes hydroxyle phénoliques, Y% en moles (Y est un nombre réel supérieur à 0) de ladite pluralité de groupes hydroxyle phénoliques étant protégés par un groupe décomposable en milieu acide identique au groupe décomposable en milieu acide (4). Y-X≧10.
(JA) 改善されたプロセス安定性を有する、黒色の着色剤を含有する高感度の感光性樹脂組成物を提供する。複数のフェノール性水酸基を有し、複数のフェノール性水酸基のXモル%(但し、Xは0より大きい実数である。)が酸分解性基(4)で保護された樹脂(a2-1)と、複数のフェノール性水酸基を有し、複数のフェノール性水酸基のYモル%(但し、Yは0より大きい実数である。)が酸分解性基(4)と同一の酸分解性基で保護された樹脂(a2-2)とを含む樹脂ブレンド(A2)と、黒色染料及び黒色顔料からなる群より選択される少なくとも1種の着色剤(B)と、光酸発生剤(C)とを含み、Y-X≧10である、ポジ型感光性樹脂組成物。
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