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1. WO2021224079 - SYSTEME D'ANALYSE DE SURFACE COMPRENANT UNE SOURCE PULSEE D'ELECTRONS

Numéro de publication WO/2021/224079
Date de publication 11.11.2021
N° de la demande internationale PCT/EP2021/061068
Date du dépôt international 28.04.2021
CIB
H01J 37/073 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
04Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
06Sources d'électrons; Canons à électrons
073Canons à électrons utilisant des sources d'électrons à émission par effet de champ, à photo-émission ou à émission secondaire
H01J 37/29 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
29Microscopes à réflexion
CPC
H01J 2237/06333
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
063Electron sources
06325Cold-cathode sources
06333Photo emission
H01J 2237/06341
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
063Electron sources
06325Cold-cathode sources
06341Field emission
H01J 2237/2626
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
26Electron or ion microscopes
262Non-scanning techniques
2623Field-emission microscopes
2626Pulsed source
H01J 37/073
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
06Electron sources; Electron guns
073Electron guns using field emission, photo emission, or secondary emission electron sources
H01J 37/29
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
29Reflection microscopes
Déposants
  • COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES [FR]/[FR]
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR]/[FR]
  • UNIVERSITE PARIS-SACLAY [FR]/[FR]
Inventeurs
  • COMPARAT, Daniel
  • BARRETT, Nicholas
  • AMIAUD, Lionel
  • PICARD, Yan
  • LAFOSSE, Anne
  • HAHN, Raphaël
  • FEDCHENKO, Olena
  • SCHOENHENSE, Gerd
Mandataires
  • MARKS & CLERK FRANCE
Données relatives à la priorité
FR200444405.05.2020FR
Langue de publication Français (fr)
Langue de dépôt français (FR)
États désignés
Titre
(EN) SURFACE ANALYSIS SYSTEM COMPRISING A PULSED ELECTRON SOURCE
(FR) SYSTEME D'ANALYSE DE SURFACE COMPRENANT UNE SOURCE PULSEE D'ELECTRONS
Abrégé
(EN) The invention relates to a system for analysing the surface of a material, comprising: - a pulsed electron source (10) forming a monochromatic beam of incident electrons (100); - means (20) for conveying incident electrons (100) to the surface of a material sample (55) in such a way as as to form backscattered electrons (110), and backscattered electrons (110) to detection means, the conveying means comprising at least one electron optic; - means (30) for detecting backscattered electrons (110); the pulsed electron source comprising: - a source of atoms (16); - a continuous laser beam (15) configured to form a laser excitation zone (15a) capable of exciting the atoms (16) into Rydberg states; - a pulsed electric field (F) on either side of the laser excitation zone, designed to ionise at least the excited atoms and to form a monochromatic electron beam (100).
(FR) L'invention concerne un système d'analyse de surface d'un matériau comprenant: - une source pulsée d'électrons (10) formant un faisceau monochromatique d'électrons incidents (100); - des moyens d'acheminement (20) des électrons incidents (100) vers la surface d'un échantillon de matériau (55), de manière à former des électrons rétrodiffusés (110), et des électrons rétrodiffusés (110) vers des moyens de détection, lesdits moyens d'acheminement comprenant au moins une optique électronique; - des moyens de détection (30) des électrons rétrodiffusés (110); ladite source pulsée d'électrons comprenant : - une source d'atomes (16); - un faisceau laser continu (15) configuré pour former une zone d'excitation laser (15a) apte à exciter les atomes (16) vers des états de Rydberg; - un champ électrique pulsé (F) de part et d'autre de la zone d'excitation laser, configuré pour ioniser au moins les atomes excités et former un faisceau d'électrons (100) monochromatique.
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