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1. WO2021063722 - DISPOSITIF DE NETTOYAGE, APPAREIL DE LITHOGRAPHIE, PROCÉDÉ D'ÉLIMINATION D'EAU OU D'UN AUTRE CONTAMINANT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF

Numéro de publication WO/2021/063722
Date de publication 08.04.2021
N° de la demande internationale PCT/EP2020/076283
Date du dépôt international 21.09.2020
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
B08B 7/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08NETTOYAGE
BNETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
7Nettoyage par des procédés non prévus dans une seule autre sous-classe ou un seul groupe de la présente sous-classe
H05G 2/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
GTECHNIQUE DES RAYONS X
2Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
CPC
B08B 7/0035
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
7Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
0035by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like
G03F 7/707
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70691Handling of masks or wafers
707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations
G03F 7/70741
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70691Handling of masks or wafers
70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
G03F 7/70925
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution, removing pollutants from apparatus; electromagnetic and electrostatic-charge pollution
70925Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants
G03F 7/70933
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution, removing pollutants from apparatus; electromagnetic and electrostatic-charge pollution
70933Purge
H05G 2/005
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
003being produced from a liquid or gas
005containing a metal as principal radiation generating component
Déposants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventeurs
  • SAFINOWSKI, Pawel
  • VAN DE KERKHOF, Marcus, Adrianus
  • ZDRAVKOV, Alexandar, Nikolov
Mandataires
  • FILIP, Diana
Données relatives à la priorité
19200715.101.10.2019EP
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) A CLEANING DEVICE, A LITHOGRAPHY APPARATUS, A METHOD OF REMOVING WATER OR OTHER CONTAMINANT AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE, APPAREIL DE LITHOGRAPHIE, PROCÉDÉ D'ÉLIMINATION D'EAU OU D'UN AUTRE CONTAMINANT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé
(EN)
A cleaning device (10) for a lithography apparatus, the cleaning device comprising: a radiation source (2) configured to supply decontamination radiation (8) capable of removing water or other contaminant from the surface of an optical component (IL; PS) or other component of the lithography system; wherein the cleaning device is configured to be clamped by a clamp (7) that clamps a patterning device during exposure processes performed by the lithography apparatus.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de nettoyage (10) pour un appareil de lithographie, ledit dispositif de nettoyage comprenant : une source de rayonnement (2) conçue pour émettre un rayonnement de décontamination (8) capable d'éliminer l'eau ou un autre contaminant de la surface d'un composant optique (IL ; PS) ou autre composant du système de lithographie ; le dispositif de nettoyage étant conçu pour être serré par une pince (7) qui serre un dispositif de formation de motifs pendant des processus d'exposition réalisés par l'appareil de lithographie.
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