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1. WO2021059862 - LIQUIDE DE PRÉ-HUMIDIFICATION, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET KIT

Numéro de publication WO/2021/059862
Date de publication 01.04.2021
N° de la demande internationale PCT/JP2020/032580
Date du dépôt international 28.08.2020
CIB
B05C 9/10 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
CAPPAREILLAGES POUR L'APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
9Appareillages ou installations pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces par des moyens non prévus dans l'un des groupes B05C1/-B05C7/202
08pour appliquer un liquide ou autre matériau fluide et exécuter une opération auxiliaire
10l'opération auxiliaire étant exécutée avant l'application
B05D 3/10 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
DPROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
3Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides
10par d'autres moyens chimiques
B05D 7/24 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
DPROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
7Procédés, autres que le flocage, spécialement adaptés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides, à des surfaces particulières, ou pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides particuliers
24pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides particuliers
G03F 7/038 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
038Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
G03F 7/039 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
039Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
G03F 7/16 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
16Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
CPC
B05C 9/10
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
9Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
08for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation
10the auxiliary operation being performed before the application
B05D 3/10
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
3Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
10by other chemical means
B05D 7/24
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
7Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
24for applying particular liquids or other fluent materials
G03F 7/038
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
G03F 7/039
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
G03F 7/16
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
16Coating processes; Apparatus therefor
Déposants
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 高橋 智美 TAKAHASHI Satomi
Mandataires
  • 伊東 秀明 ITOH Hideaki
  • 三橋 史生 MITSUHASHI Fumio
Données relatives à la priorité
2019-17798627.09.2019JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) PRE-WETTING LIQUID, RESIST FILM FORMING METHOD, PATTERN FORMING METHOD, AND KIT
(FR) LIQUIDE DE PRÉ-HUMIDIFICATION, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET KIT
(JA) プリウェット液、レジスト膜形成方法、パターン形成方法、キット
Abrégé
(EN)
The present invention provides a pre-wetting liquid that has excellent resist saving properties. The present invention also provides a resist film forming method, a pattern forming method, and a kit, which are related to the above-described pre-wetting liquid. A pre-wetting liquid according to the present invention has a surface tension of 29.0 mN/m or more, a viscosity of 1.8 cP or less and a vapor pressure of from 2.5 mmHg to 5.0 mmHg; if this pre-wetting liquid is composed of a single solvent, the single solvent has an SP value of 25.0 MPa1/2 or less, while having no benzene ring group; and if this pre-wetting liquid is composed of a mixed solvent, the requirement 1 or the requirement 2 is satisfied. Requirement 1: The mixed solvent is composed only of two or more organic solvents A, and the organic solvents A have an SP value of 25.0 MPa1/2 or less and a surface tension of 29.0 mN/m or more, while having no benzene ring group. Requirement 2: The mixed solvent is obtained by mixing an organic solvent A and an organic solvent B, and the organic solvent B has an SP value of 25.0 MPa1/2 or less and a surface tension of less than 29.0 mN/m.
(FR)
L'invention fournit un liquide de pré-humidification présentant d'excellentes propriétés d'économie de réserve. En outre, l'invention fournit un procédé de formation de film de réserve, un procédé de formation de motif et un kit associés audit liquide de pré-humidification. Le liquide de pré-humidification de l'invention présente une tension superficielle supérieure ou égale à 29,0mN/m, une viscosité inférieure ou égale à 1,8cP, et une tension de vapeur comprise entre 2,5 et 5,0mmHg, présente une valeur SP inférieure ou égale à 25,0MPa1/2 dans le cas où il est constitué d'un seul solvant, et satisfait la requête (1) ou la requête (2), dans le cas où il est exempt de groupe à cycle de benzène, et où il est constitué d'un solvant mélangé. Requête (1) : le solvant mélangé est constitué uniquement de deux sortes ou plus d'un solvant organique (A). Lequel solvant organique (A) présente une valeur SP inférieure ou égale à 25,0MPa1/2, et une tension superficielle supérieure ou égale à 29,0mN/m, et est exempt de groupe à cycle de benzène. Requête (5) : le solvant mélangé consiste en un solvant mélangé à base d'un solvant organique (A) et d'un solvant organique (B). Le solvant organique (B) présente une valeur SP inférieure ou égale à 25,0MPa1/2, et une tension superficielle inférieure à 29,0mN/m.
(JA)
本発明は、優れた省レジスト性を有するプリウェット液を提供する。また、上記プリウェット液に関する、レジスト膜形成方法、パターン形成方法、及び、キットを提供する。 本発明のプリウェット液は、表面張力が29.0mN/m以上、粘度が1.8cP以下、かつ、蒸気圧が2.5~5.0mmHgであって、単独溶剤からなる場合、SP値が25.0MPa1/2以下、かつ、ベンゼン環基を有さず、混合溶剤からなる場合、要件1又は要件2を満たす。 要件1:混合溶剤が、2種以上の有機溶剤Aのみからなる混合溶剤であり、有機溶剤Aは、SP値が25.0MPa1/2以下、表面張力が29.0mN/m以上、かつ、ベンゼン環基を有さない。 要件2:混合溶剤が、有機溶剤A及び有機溶剤Bの混合溶剤であり、有機溶剤Bは、SP値が25.0MPa1/2以下、かつ、表面張力が29.0mN/m未満である。
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