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1. WO2021059469 - DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE PLASMA ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA

Numéro de publication WO/2021/059469
Date de publication 01.04.2021
N° de la demande internationale PCT/JP2019/038099
Date du dépôt international 27.09.2019
CIB
H05H 1/26 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24Production du plasma
26Torches à plasma
CPC
H05H 1/26
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
26Plasma torches
Déposants
  • 株式会社FUJI FUJI CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 池戸 俊之 IKEDO, Toshiyuki
  • 岩田 卓也 IWATA, Takuya
  • 白木 聡一 SHIRAKI, Soichi
Mandataires
  • 特許業務法人ネクスト NEXT INTERNATIONAL
  • 深津 泰隆 FUKATSU, Yasutaka
  • 片岡 友希 KATAOKA, Tomoki
Données relatives à la priorité
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) PLASMA GENERATION DEVICE AND PLASMA TREATMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE PLASMA ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA
(JA) プラズマ発生装置、およびプラズマ処理方法
Abrégé
(EN)
A plasma generation device provided with: a device body in which a reaction chamber for generating plasma from a process gas is formed; a ceramic nozzle having a first jetting port for jetting the plasma gas generated in the reaction chamber; and a metal nozzle cover formed such that a second jetting port for jetting a gas so as to cover the plasma gas covers the first jetting port.
(FR)
La présente invention concerne un dispositif de génération de plasma comprenant : un corps de dispositif dans lequel une chambre de réaction pour générer du plasma à partir d'un gaz de traitement est formée ; une buse en céramique ayant un premier orifice d'éjection pour éjecter le gaz plasma généré dans la chambre de réaction ; et un couvercle de buse métallique formé de telle sorte qu'un second orifice d'éjection pour éjecter un gaz de façon à recouvrir le gaz plasma recouvre le premier orifice d'éjection.
(JA)
処理ガスをプラズマ化させるための反応室が形成された装置本体と、反応室においてプラズマ化されたプラズマガスを噴出するための第1噴出口が形成されたセラミック製のノズルと、プラズマガスを覆うようにガスを噴出するための第2噴出口が第1噴出口を覆うように形成された金属製のノズルカバーと、を備えたプラズマ発生装置。
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