Commentaires
Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2020243374 - PROCÉDÉS D’APPARIEMENT D'ÉTENDUE OPTIQUE POUR LA MÉTROLOGIE DES ULTRAVIOLETS EXTRÊMES

Formuler une observation
Lien permanent
Numéro de publication WO/2020/243374
Date de publication 03.12.2020
N° de la demande internationale PCT/US2020/035032
Date du dépôt international 29.05.2020
CIB
G01N 21/956 2006.1
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
956Inspection de motifs sur la surface d'objets
G01N 21/88 2006.1
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
H01J 37/32 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
H05H 1/00 2006.1
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
CPC
G01N 2021/8887
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
8887based on image processing techniques
G01N 21/8806
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
8806Specially adapted optical and illumination features
G01N 21/956
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
956Inspecting patterns on the surface of objects
G01N 2223/203
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
2223Investigating materials by wave or particle radiation
20Sources of radiation
203synchrotron
G02B 26/085
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
26Optical devices or arrangements using movable or deformable optical elements for controlling the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light, e.g. switching, gating, modulating
08for controlling the direction of light
0816by means of one or more reflecting elements
0833the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
085the reflecting means being moved or deformed by electromagnetic means
G02B 5/1838
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
1838for use with ultraviolet radiation or X-rays
Déposants
  • KLA CORPORATION [US]/[US]
Inventeurs
  • MARKS, Zefram
  • JUSCHKIN, Larissa
  • WACK, Daniel
Mandataires
  • MCANDREWS, Kevin
  • MORRIS, Elizabeth M.N
Données relatives à la priorité
16/862,27929.04.2020US
62/854,78530.05.2019US
Langue de publication Anglais (en)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) OPTICAL ETENDUE MATCHING METHODS FOR EXTREME ULTRAVIOLET METROLOGY
(FR) PROCÉDÉS D’APPARIEMENT D'ÉTENDUE OPTIQUE POUR LA MÉTROLOGIE DES ULTRAVIOLETS EXTRÊMES
front page image
Abrégé
(EN) An optical characterization system is disclosed. The optical characterization system may comprise a synchrotron source, an optical characterization sub-system, and a sensor configured to receive a projected image from a set of imaging optics. The optical characterization sub-system may include at least the set of illumination optics, a set of imaging optics, and a diffractive optical element, a temporal modulator or an optical waveguide configured to match an etendue of a light beam output by the synchrotron source to the set of illumination optics. A method of matching the etendue of a light beam is also disclosed.
(FR) L'invention concerne un système de caractérisation optique. Le système de caractérisation optique peut comprendre une source synchrotron, un sous-système de caractérisation optique et un capteur configuré pour recevoir une image projetée à partir d'un ensemble d'optiques d'imagerie. Le sous-système de caractérisation optique peut comprendre au moins l'ensemble d'optiques d'éclairage, un ensemble d'optiques d'imagerie et un élément optique diffractif, un modulateur temporel ou un guide d'ondes optique configuré pour faire correspondre une étendue d'un faisceau lumineux émis par la source synchrotron à l'ensemble d'optiques d'éclairage. L'invention porte en outre sur un procédé d'appariement de l'étendue d'un faisceau lumineux.
Documents de brevet associés
US20200383200
KR1020220003126
EP3953695
JP2021570891Cette demande ne peut pas être visualisée dans PATENTSCOPE car les données relatives à l'ouverture de la phase nationale n'ont pas encore été publiées ou sont émises par un pays qui ne partage pas de données avec l'OMPI ou il y a un problème de formatage ou d'indisponibilité de la demande.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international
# -