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1. WO2020242710 - INSERT DE POMME DE DOUCHE POUR RÉGLAGE D'UNIFORMITÉ

Numéro de publication WO/2020/242710
Date de publication 03.12.2020
N° de la demande internationale PCT/US2020/030820
Date du dépôt international 30.04.2020
CIB
H01J 37/32 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
CPC
H01J 37/32174
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
H01J 37/32339
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32321Discharge generated by other radiation
32339using electromagnetic radiation
H01J 37/3244
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
3244Gas supply means
H01J 37/32532
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32532Electrodes
H01J 37/32605
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32532Electrodes
32605Removable or replaceable electrodes or electrode systems
H01J 37/3266
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
3266Magnetic control means
Déposants
  • LAM RESEARCH CORPORATION [US]/[US]
Inventeurs
  • FRENCH, David Michael
Mandataires
  • SCHEER, Bradley W.,
  • BLACK, David W., USPTO Reg. No. 42,331
  • LANG, Roger, USPTO Reg., No. 58,829
  • PERDOK, Monique M., USPTO Reg. No. 42,989
Données relatives à la priorité
62/854,19329.05.2019US
Langue de publication Anglais (en)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SHOWERHEAD INSERT FOR UNIFORMITY TUNING
(FR) INSERT DE POMME DE DOUCHE POUR RÉGLAGE D'UNIFORMITÉ
Abrégé
(EN) In some examples, a shaped insert above a showerhead in a wafer processing chamber is used to alter the electric fields near the wafer processing area and in some examples to correct or improve asymmetry in a QSM processing module. In some embodiments, the insert may comprise an annular body, the annular body having at least one surface thereon that comprises a material for supporting electromagnetic coupling when energized by an RF power source, and an annulus in the annular body sized to accommodate a stem of the showerhead. In some examples, a configuration of the insert is selected to affect or correct an asymmetry of an electromagnetic field or plasma generated within the processing chamber in use.
(FR) Selon certains modes de réalisation, l'invention concerne un insert façonné au-dessus d'une pomme de douche dans une chambre de traitement de tranches utilisées pour modifier les champs électriques à proximité de la zone de traitement de tranches et dans certains exemples pour corriger ou améliorer l'asymétrie dans un module de traitement QSM. Selon certains modes de réalisation, l'insert peut comprendre un corps annulaire, le corps annulaire étant surmonté d'une surface qui comprend un matériau pour le support d'un couplage électromagnétique lorsqu'il est excité par une source d'énergie RF, et un anneau dans le corps annulaire dimensionné pour recevoir une tige de la pomme de douche. Selon certains exemples, une configuration de l'insert est sélectionnée pour affecter ou corriger une asymétrie d'un champ électromagnétique ou d'un plasma généré à l'intérieur de la chambre de traitement lors de l'utilisation.
Documents de brevet associés
US17612536Cette demande ne peut pas être visualisée dans PATENTSCOPE car les données relatives à l'ouverture de la phase nationale n'ont pas encore été publiées ou sont émises par un pays qui ne partage pas de données avec l'OMPI ou il y a un problème de formatage ou d'indisponibilité de la demande.
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