(EN) In some examples, a shaped insert above a showerhead in a wafer processing chamber is used to alter the electric fields near the wafer processing area and in some examples to correct or improve asymmetry in a QSM processing module. In some embodiments, the insert may comprise an annular body, the annular body having at least one surface thereon that comprises a material for supporting electromagnetic coupling when energized by an RF power source, and an annulus in the annular body sized to accommodate a stem of the showerhead. In some examples, a configuration of the insert is selected to affect or correct an asymmetry of an electromagnetic field or plasma generated within the processing chamber in use.
(FR) Selon certains modes de réalisation, l'invention concerne un insert façonné au-dessus d'une pomme de douche dans une chambre de traitement de tranches utilisées pour modifier les champs électriques à proximité de la zone de traitement de tranches et dans certains exemples pour corriger ou améliorer l'asymétrie dans un module de traitement QSM. Selon certains modes de réalisation, l'insert peut comprendre un corps annulaire, le corps annulaire étant surmonté d'une surface qui comprend un matériau pour le support d'un couplage électromagnétique lorsqu'il est excité par une source d'énergie RF, et un anneau dans le corps annulaire dimensionné pour recevoir une tige de la pomme de douche. Selon certains exemples, une configuration de l'insert est sélectionnée pour affecter ou corriger une asymétrie d'un champ électromagnétique ou d'un plasma généré à l'intérieur de la chambre de traitement lors de l'utilisation.
