Traitement en cours

Veuillez attendre...

PATENTSCOPE sera indisponible durant quelques heures pour des raisons de maintenance le samedi 31.10.2020 à 7:00 AM CET
Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2020197938 - SOURCE D'IONS À MÉTAL LIQUIDE

Numéro de publication WO/2020/197938
Date de publication 01.10.2020
N° de la demande internationale PCT/US2020/023664
Date du dépôt international 19.03.2020
CIB
H01J 37/08 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
04Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
08Sources d'ions; Canons à ions
H01J 27/02 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
27Tubes à faisceau ionique
02Sources d'ions; Canons à ions
H01J 49/10 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
49Spectromètres pour particules ou tubes séparateurs de particules
02Détails
10Sources d'ions; Canons à ions
CPC
H01J 2237/08
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
08Ion sources
H01J 2237/0805
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
08Ion sources
0802Field ionization sources
0805Liquid metal sources
H01J 27/08
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
27Ion beam tubes
02Ion sources; Ion guns
08using arc discharge
H01J 37/08
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
08Ion sources; Ion guns
H01J 37/3002
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
3002Details
Déposants
  • AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • BASSOM, Neil
  • COLVIN, Neil
  • HSIEH, Tseh-Jen
  • AMEEN, Michael
Données relatives à la priorité
62/822,31322.03.2019US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) LIQUID METAL ION SOURCE
(FR) SOURCE D'IONS À MÉTAL LIQUIDE
Abrégé
(EN)
An ion source is configured to form an ion beam and has an arc chamber enclosing an arc chamber environment. A reservoir apparatus can be configured as a repeller and provides a liquid metal to the arc chamber environment. A biasing power supply electrically biases the reservoir apparatus with respect to the arc chamber to vaporize the liquid metal to form a plasma in the arc chamber environment. The reservoir apparatus has a cup and cap defining a reservoir environment for the liquid metal that is fluidly coupled to the arc chamber environment by holes in the cap. Features extend from the cup into the reservoir and contact the liquid metal to feed the liquid metal toward the arc chamber environment by capillary action. A structure, surface area, roughness, and material modifies the capillary action. The feature can be an annular ring, rod, or tube extending into the liquid metal.
(FR)
L'invention concerne une source d'ions qui est configurée pour former un faisceau d'ions et comporte une chambre à arc renfermant un environnement de chambre à arc. Un appareil de réservoir peut être configuré sous la forme d'un dispositif de répulsion et fournit un métal liquide à l'environnement de chambre à arc. Une alimentation électrique de polarisation polarise électriquement l'appareil de réservoir par rapport à la chambre à arc pour vaporiser le métal liquide pour former un plasma dans l'environnement de chambre à arc. L'appareil de réservoir a une coupelle et un capuchon définissant un environnement de réservoir pour le métal liquide qui est couplé de manière fluidique à l'environnement de chambre à arc par des trous dans le capuchon. Des éléments s'étendent à partir de la coupelle dans le réservoir et entrent en contact avec le métal liquide pour alimenter le métal liquide vers l'environnement de chambre à arc par action capillaire. Une structure, une surface, une rugosité et un matériau modifient l'action capillaire. La caractéristique peut être une bague annulaire, une tige ou un tube s'étendant dans le métal liquide.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international