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1. WO2020196660 - PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSÉ DE BUTANE CYCLIQUE, PHOTOSENSIBILISATEUR ET COMPOSÉ DE PYRAZOLE

Numéro de publication WO/2020/196660
Date de publication 01.10.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2020/013431
Date du dépôt international 25.03.2020
CIB
C07D 493/04 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
DCOMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
493Composés hétérocycliques contenant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes dans le système condensé
02dans lesquels le système condensé contient deux hétérocycles
04Systèmes condensés en ortho
C07D 231/12 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
DCOMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
231Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 2 ou diazole-1, 2 hydrogéné
02non condensés avec d'autres cycles
10comportant deux ou trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
12avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle
C07D 231/16 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
DCOMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
231Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 2 ou diazole-1, 2 hydrogéné
02non condensés avec d'autres cycles
10comportant deux ou trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
14avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p.ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
16Atomes d'halogènes ou radicaux nitro
Déposants
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 綱 和宏 TSUNA, Kazuhiro
  • 伊藤 孝之 ITO, Takayuki
Mandataires
  • 特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO
Données relatives à la priorité
2019-06183027.03.2019JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) CYCLIC BUTANE COMPOUND PRODUCTION METHOD, PHOTOSENSITIZER, AND PYRAZOLE COMPOUND
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSÉ DE BUTANE CYCLIQUE, PHOTOSENSIBILISATEUR ET COMPOSÉ DE PYRAZOLE
(JA) 環状ブタン化合物の製造方法、光増感剤、及びピラゾール化合物
Abrégé
(EN)
Provided are: a cyclic butane compound production method comprising performing a [2+2] photocyclization reaction of an unsaturated compound in the presence of a compound represented by formula 1a or formula 1b; a photosensitizer; and a pyrazole compound. In the formulae, A1, A2, and A4 each independently represent a nitrogen atom or C(R2), each A3 independently represents an oxygen atom, a sulfur atom, or N(R3), each R1 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R2 and R3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
(FR)
L'invention concerne : un procédé de production de composé de butane cyclique comprenant la réalisation d'une réaction de photocyclisation [2+2] d'un composé insaturé en présence d'un composé représenté par la formule 1a ou la formule 1b ; un photosensibilisateur ; et un composé de pyrazole. Dans les formules, A1, A2 et A4 représentent chacun indépendamment un atome d'azote ou C(R2), chaque A3 représente indépendamment un atome d'oxygène, un atome de soufre, ou N(R3), chaque R1 représente indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle, un groupe alcényle, un groupe aryle ou un groupe hétérocyclique, et R2 et R3 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un substituant.
(JA)
式1a又は式1bで表される化合物の存在下、不飽和化合物の[2+2]光環化反応を行うことを含む環状ブタン化合物の製造方法、並びに、光増感剤及びピラゾール化合物である。式中、A、A及びAはそれぞれ独立に窒素原子又はC(R)を表し、Aはそれぞれ独立に酸素原子、硫黄原子又はN(R)を表し、Rはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
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