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1. WO2020195343 - LIQUIDE DE NETTOYAGE

Numéro de publication WO/2020/195343
Date de publication 01.10.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2020/006200
Date du dépôt international 18.02.2020
CIB
C11D 17/08 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
11HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
DCOMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
17Détergents ou savons caractérisés par leur forme ou leurs propriétés physiques
08Savon liquide; en capsules
C11D 1/22 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
11HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
DCOMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
1Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifs; Emploi de ces composés comme détergents
02Composés anioniques
12Esters des acides sulfoniques ou de l'acide sulfurique; Leurs sels
22dérivés de composés aromatiques
C11D 1/34 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
11HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
DCOMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
1Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifs; Emploi de ces composés comme détergents
02Composés anioniques
34Dérivés des acides du phosphore
C11D 1/72 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
11HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
DCOMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
1Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifs; Emploi de ces composés comme détergents
66Composés non ioniques
72Ethers de polyoxyalkylèneglycols
C11D 3/20 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
11HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
DCOMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
16Composés organiques
20contenant de l'oxygène
C11D 3/28 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
11HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
DCOMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
16Composés organiques
26contenant de l'azote
28Composés hétérocycliques contenant de l'azote dans le cycle
Déposants
  • 富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社 FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS CO., LTD. [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 上村 哲也 KAMIMURA Tetsuya
  • 綿引 勉 WATAHIKI Tsutomu
Mandataires
  • 伊東 秀明 ITOH Hideaki
  • 三橋 史生 MITSUHASHI Fumio
  • 蜂谷 浩久 HACHIYA Hirohisa
  • 上西 浩史 KAMINISHI Koji
Données relatives à la priorité
2019-05857726.03.2019JP
2019-12904011.07.2019JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) CLEANING LIQUID
(FR) LIQUIDE DE NETTOYAGE
(JA) 洗浄液
Abrégé
(EN)
The present invention addresses the problem of providing a cleaning liquid for a semiconductor substrate, wherein pH variation due to dilution is suppressed. This cleaning liquid is a cleaning liquid for a semiconductor substrate and includes a chelating agent, wherein the acid dissociation constant (pKa) of the chelating agent and the pH of the cleaning liquid satisfy the condition of the following expression (A). (A): pKa-1<pH<pKa+1
(FR)
La présente invention aborde le problème consistant à fournir un liquide de nettoyage pour un substrat semi-conducteur, la variation du pH due à la dilution étant supprimée. Ce liquide de nettoyage est un liquide de nettoyage pour un substrat semi-conducteur et comprend un agent chélatant, la constante de dissociation acide (pKa) de l'agent chélatant et le pH du liquide de nettoyage satisfaisant la condition de l'expression suivante (A). (A): pKa-1<pH<pKa+1
(JA)
本発明は、希釈によるpHの変動が抑制された半導体基板用の洗浄液を提供することを課題とする。 本発明の洗浄液は、キレート剤を含む半導体基板用の洗浄液であって、キレート剤が有する酸解離定数(pKa)と、洗浄液のpHとが、下記式(A)の条件を満たす。 pKa-1<pH<pKa+1 (A)
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