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1. WO2020193794 - COMPLEXES MÉTALLIQUES POUR DÉPÔT DE COUCHE MINCE EN PHASE GAZEUSE

Numéro de publication WO/2020/193794
Date de publication 01.10.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2020/058865
Date du dépôt international 27.03.2020
CIB
C07F 17/02 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
FCOMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
17Metallocènes
02de métaux des groupes 8, 9 ou 10 de la classification périodique
C07F 5/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
FCOMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
5Composés contenant des éléments des groupes 3 ou 13 de la classification périodique
C23C 16/18 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
06caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
18à partir de composés organométalliques
C23C 16/455 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
44caractérisé par le procédé de revêtement
455caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
CPC
C07F 17/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
17Metallocenes
02of metals of Groups 8, 9 or 10 of the Periodic System
C07F 5/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
5Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic System
C23C 16/18
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
06characterised by the deposition of metallic material
18from metallo-organic compounds
C23C 16/45553
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
455characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
45523Pulsed gas flow or change of composition over time
45525Atomic layer deposition [ALD]
45553characterized by the use of precursors specially adapted for ALD
Déposants
  • UMICORE AG & CO. KG [DE]/[DE]
Inventeurs
  • SUNDERMEYER, Joerg
  • SCHUMANN, Henrik
  • SCHORN, Wolf
  • RAU, Nicholas
  • FREY, Annika
  • KARCH, Ralf
  • WOERNER, Eileen
  • DOPPIU, Angelino
Données relatives à la priorité
19165935.828.03.2019EP
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) METALLKOMPLEXE FÜR GASPHASEN-DÜNNSCHICHTABSCHEIDUNG
(EN) METAL COMPLEXES FOR GAS-PHASE THIN-FILM DEPOSITION
(FR) COMPLEXES MÉTALLIQUES POUR DÉPÔT DE COUCHE MINCE EN PHASE GAZEUSE
Abrégé
(DE)
Es werden Metallkomplexeder Formel (I) beschrieben: [M(L1)x(L2)y(hydra)z]n Formel (I) wobei: M=Metallatom mit einer Ordnungszahl ausgewählt aus den Bereichen a) bis c): a)12, 21 bis 34, mit Ausnahme von 30, b)39 bis 52, mit Ausnahme von 48, c)71 bis 83, mit Ausnahme von 80, L1 =neutraler oder anionischer Ligand, mit x = 0 oder 1,1 L2 =neutraler oder anionischer Ligand, mit y = 0 oder 1, (hydra) =Acetondimethylhydrazon-Monoanion, mit z = 1, 2 oder 3, n = 1 oder 2 ist, und die Gesamtladung des Komplexes 0 ist.
(EN)
The invention relates to metal complexes of formula (I): [M(L1)x(L2)y(hydra)z]n formula (I) wherein: M = metal atom of an atomic number selected from the ranges a) to c): a) 12, 21 to 34, with the exception of 30, b) 39 to 52, with the exception of 48, c) 71 to 83, with the exception of 80, L1 = neutral or anionic ligand, with x = 0 or 1, L2 = neutral or anionic ligand, with y = 0 or 1, (hydra) = acetone dimethylhydrazone monoanion, with z = 1, 2 or 3, n = 1 or 2, and the total charge of the complex is 0.
(FR)
L’invention concerne des complexes métalliques de formule (I) : [M(L1)x(L2)y(hydra)z]n Formule (I) où : M=atome de métal avec un numéro atomique sélectionné dans les plages a) à c) : a) 12, 21 à 34, à l'exception de 30, b) 39 à 52, à l'exception de 48, c) 71 à 83, à l'exception de 80, L1 = ligand neutre ou anionique, où x = 0 ou 1, L2 = ligand neutre ou anionique, où y = 0 ou 1, (hydra) = monoanion d’acétone diméthylhydrazone, où z = 1, 2 ou 3, n = 1 ou 2, et la charge totale du complexe est 0.
Également publié en tant que
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