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1. WO2020185317 - MÉTHODES DE GÉNÉRATION DE MOTIFS DE GOUTTE, SYSTÈMES DE MISE EN FORME DE FILMS AVEC LE MOTIF DE GOUTTE, ET MÉTHODES DE FABRICATION D'UN ARTICLE AVEC LE MOTIF DE GOUTTE

Numéro de publication WO/2020/185317
Date de publication 17.09.2020
N° de la demande internationale PCT/US2020/015549
Date du dépôt international 29.01.2020
CIB
B29C 59/02 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
CFAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES MATIÈRES À L'ÉTAT PLASTIQUE NON PRÉVU AILLEURS; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
59Façonnage de surface, p.ex. gaufrage; Appareils à cet effet
02par des moyens mécaniques, p.ex. par pressage
B82Y 10/00 2011.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
82NANOTECHNOLOGIE
YUTILISATION OU APPLICATIONS SPÉCIFIQUES DES NANOSTRUCTURES; MESURE OU ANALYSE DES NANOSTRUCTURES; FABRICATION OU TRAITEMENT DES NANOSTRUCTURES
10Nanotechnologie pour le traitement, le stockage ou la transmission d’informations, p.ex. calcul quantique ou logique à un électron
B82Y 40/00 2011.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
82NANOTECHNOLOGIE
YUTILISATION OU APPLICATIONS SPÉCIFIQUES DES NANOSTRUCTURES; MESURE OU ANALYSE DES NANOSTRUCTURES; FABRICATION OU TRAITEMENT DES NANOSTRUCTURES
40Fabrication ou traitement des nanostructures
G03F 7/004 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
CPC
B29C 2035/0833
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
35Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
02Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing ; during moulding, e.g. in a mould
08by wave energy or particle radiation
0805using electromagnetic radiation
0833using actinic light
B29C 35/0805
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
35Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
02Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing ; during moulding, e.g. in a mould
08by wave energy or particle radiation
0805using electromagnetic radiation
B29C 59/022
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
59Surface shaping ; of articles; , e.g. embossing; Apparatus therefor
02by mechanical means, e.g. pressing
022characterised by the disposition or the configuration, e.g. dimensions, of the embossments or the shaping tools therefor
B82Y 10/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
10Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
B82Y 40/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
40Manufacture or treatment of nanostructures
G03F 7/0002
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
Déposants
  • CANON KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP]
  • CANON NANOTECHNOLOGIES, INC. [US]/[US] (AE)
Inventeurs
  • SIMPSON, Logan, L.
  • BURNS, Steven, Wayne
  • BATTIN, Jason
  • KHUSNATDINOV, Niyaz
  • JONES, Christopher, Ellis
  • CONE, Craig, William
  • ZHANG, Wei
  • IRVING, James, W.
Mandataires
  • KING, Cameron, A.
Données relatives à la priorité
16/353,43314.03.2019US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHODS OF GENERATING DROP PATTERNS, SYSTEMS FOR SHAPING FILMS WITH THE DROP PATTERN, AND METHODS OF MANUFACTURING AN ARTICLE WITH THE DROP PATTERN
(FR) MÉTHODES DE GÉNÉRATION DE MOTIFS DE GOUTTE, SYSTÈMES DE MISE EN FORME DE FILMS AVEC LE MOTIF DE GOUTTE, ET MÉTHODES DE FABRICATION D'UN ARTICLE AVEC LE MOTIF DE GOUTTE
Abrégé
(EN)
One embodiment is a method that includes generating drop pattern information. The method may comprise receiving pattern information. The pattern information may include one or both of: a substrate pattern of a representative substrate; and a template pattern of a representative template. The method may further comprise receiving offset information about a particular substrate that is representative of a measured state of the particular substrate relative to a reference state. The drop pattern information may represent a plurality of positions to place droplets of formable material on the particular substrate. The method may further comprise outputting the drop pattern information that is representative of the formable material that fills a volume between the template and the particular substrate that is in the measured state and the formable material does not spread into a border region at an edge of the particular substrate.
(FR)
Un mode de réalisation est une méthode qui consiste à générer des informations de motif de goutte. La méthode peut comprendre la réception d'informations de motif. Les informations de motif peuvent comprendre l'un ou les deux parmi : un motif de substrat d'un substrat représentatif ; et un motif de modèle d'un modèle représentatif. La méthode peut en outre comprendre la réception d'informations de décalage concernant un substrat particulier qui sont représentatives d'un état mesuré du substrat particulier par rapport à un état de référence. Les informations de motif de goutte peuvent représenter une pluralité de positions pour placer des gouttelettes de matériau formable sur le substrat particulier. La méthode peut en outre consister à délivrer en sortie les informations de motif de goutte qui sont représentatives du matériau formable qui remplit un volume entre le modèle et le substrat particulier qui est dans l'état mesuré et le matériau formable ne s'étale pas dans une région de bordure au niveau d'un bord du substrat particulier.
Également publié en tant que
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