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1. WO2020158316 - MATÉRIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MOTIF EN RÉSINE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CÂBLAGE DE CIRCUIT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’ÉCRAN TACTILE, ET FILM ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉS

Numéro de publication WO/2020/158316
Date de publication 06.08.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2020/000277
Date du dépôt international 08.01.2020
CIB
B32B 27/18 2006.1
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32PRODUITS STRATIFIÉS
BPRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
27Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
18caractérisée par l'emploi d'additifs particuliers
B32B 27/36 2006.1
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32PRODUITS STRATIFIÉS
BPRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
27Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
36comprenant des polyesters
C08F 20/28 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
FCOMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
20Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10Esters
26Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
28ne contenant pas de cycles aromatiques dans la partie alcool
G03F 7/004 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
G03F 7/039 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
039Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
G03F 7/09 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
09caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
CPC
B32B 27/18
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
27Layered products comprising ; a layer of; synthetic resin
18characterised by the use of special additives
B32B 27/36
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
27Layered products comprising ; a layer of; synthetic resin
36comprising polyesters
B32B 7/06
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
7Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
04Interconnection of layers
06permitting easy separation
C08F 20/28
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
20Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
10Esters
26Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
28containing no aromatic rings in the alcohol moiety
G03F 7/004
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
G03F 7/039
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
Déposants
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 両角 一真 MOROZUMI, Kazumasa
  • 豊嶋 悠樹 TESHIMA, Yuki
  • 漢那 慎一 KANNA, Shinichi
  • 宮宅 一仁 MIYAKE, Kazuhito
Mandataires
  • 特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO
Données relatives à la priorité
2019-01298229.01.2019JP
2019-11695225.06.2019JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, RESIN PATTERN PRODUCTION METHOD, CIRCUIT WIRING PRODUCTION METHOD, TOUCH PANEL PRODUCTION METHOD, AND, FILM AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) MATÉRIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MOTIF EN RÉSINE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CÂBLAGE DE CIRCUIT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’ÉCRAN TACTILE, ET FILM ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉS
(JA) 感光性転写材料、樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法、並びに、フィルム及びその製造方法
Abrégé
(EN)
This photosensitive transfer material comprises a temporary support and a photosensitive resin layer provided on the temporary support, wherein: the temporary support has a particle-containing layer containing particles; the surface roughness on the surface of the temporary support facing away from the surface on the side having the photosensitive resin layer is 0.02 μm to 0.20 μm; and the photosensitive resin layer contains a photoacid generator, and a polymer containing a constituent unit having an acid group protected by an acid decomposable group. Also provided are: a resin pattern production method, a circuit wiring production method, and a touch panel production method, which use the transfer material; and a film having a particle-containing layer, a haze value of 0.2% or less, and a surface roughness Ra on the surface of the side having the particle-containing layer of 0.02 μm to 0.20 μm, as well as a production method therefor.
(FR)
L’invention concerne un matériau de transfert photosensible comprenant un support temporaire et une couche de résine photosensible disposée sur le support temporaire, le support temporaire comprenant une couche contenant des particules contenant des particules ; la rugosité de surface sur la surface du support temporaire opposée à la surface du côté présentant la couche de résine photosensible allant de 0,02 µm à 0,20 µm ; et la couche de résine photosensible contenant un générateur à photoacide, et un polymère contenant un motif constitutif comprenant un groupe acide protégé par un groupe décomposable par acide. L'invention concerne également : un procédé de production de motif en résine, un procédé de production de câblage de circuit et un procédé de production d’écran tactile, qui mettent en œuvre le matériau de transfert ; et un film comprenant une couche contenant des particules, une valeur de trouble inférieure ou égale à 0,2 %, et une rugosité de surface Ra sur la surface du côté présentant la couche contenant des particules de 0,02 µm à 0,20 µm, ainsi qu'un procédé de production associé.
(JA)
感光性転写材料は、仮支持体と、上記仮支持体上に設けられた感光性樹脂層とを有し、上記仮支持体は、粒子を含有する粒子含有層を有し、上記仮支持体の感光性樹脂層を有する側の面とは反対側の面の表面粗さが、0.02μm~0.20μmであり、上記感光性樹脂層が、酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位を含有する重合体、及び、光酸発生剤を含有する。上記転写材料を用いた樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法、並びに、粒子含有層を有し、ヘーズ値が、0.2%以下であり、上記粒子含有層を有する側の面の表面粗さRaが、0.02μm~0.20μmであるフィルム及びその製造方法も提供される。
Également publié en tant que
JP2020569469
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