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1. WO2020157860 - SYSTÈME À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ D'IMAGERIE PAR FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES

Numéro de publication WO/2020/157860
Date de publication 06.08.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2019/003175
Date du dépôt international 30.01.2019
CIB
H01J 37/22 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
22Dispositifs optiques ou photographiques associés au tube
CPC
H01J 37/22
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
22Optical or photographic arrangements associated with the tube
Déposants
  • 株式会社日立ハイテク HITACHI HIGH-TECH CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 岡井 信裕 OKAI Nobuhiro
  • 鈴木 直正 SUZUKI Naomasa
  • 榊原 慎 SAKAKIBARA Makoto
  • 新谷 敦子 SHINTANI Atsuko
Mandataires
  • 特許業務法人磯野国際特許商標事務所 ISONO INTERNATIONAL PATENT OFFICE, P.C.
Données relatives à la priorité
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM IMAGING METHOD
(FR) SYSTÈME À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ D'IMAGERIE PAR FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線システム及び荷電粒子線撮像方法
Abrégé
(EN)
This charged particle beam system is characterized by having: a stage control unit (211) which inclines an inclined SEM stage to a set angle; an addressing processing unit (213) which moves a stage unit to an addressing pattern set in advance for a sample; and an imaging processing unit (214) which, on the basis of the addressing pattern, adjusts movement of the charged particle beam such that the charged particle beam is irradiated onto the imaging location.
(FR)
La présente invention porte sur un système à faisceau de particules chargées qui est caractérisé en ce qu'il comprend : une unité de commande d'étage (211) qui incline un étage MEB incliné à un angle défini ; une unité de traitement d'adressage (213) qui déplace une unité d'étage sur un modèle d'adressage défini à l'avance pour un échantillon ; et une unité de traitement d'imagerie (214) qui ajuste, sur la base du modèle d'adressage, le déplacement du faisceau de particules chargées de façon à être émis sur l'emplacement d'imagerie.
(JA)
傾斜SEMのステージを、設定された角度に傾斜させるステージ制御部(211)と、予め試料に設定されているアドレッシングパターンにステージ部を移動させるアドレッシング処理部(213)と、アドレッシングパターンを基に、撮像箇所に荷電粒子線ビームが照射されるよう、荷電粒子線ビームの移動を調整する撮像処理部(214)ビーム移動調整部と、を有することを特徴とする。
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