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1. WO2020155475 - MATÉRIAU DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE NÉGATIVE ET FILTRE COLORÉ

Numéro de publication WO/2020/155475
Date de publication 06.08.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2019/087863
Date du dépôt international 21.05.2019
CIB
G03F 7/038 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
038Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
CPC
G02B 5/20
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
20Filters
G03F 7/004
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
G03F 7/027
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
G03F 7/038
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
Déposants
  • 深圳市华星光电技术有限公司 SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 饶夙缔 RAO, Sudi
Mandataires
  • 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) ESSEN PATENT&TRADEMARK AGENCY
Données relatives à la priorité
201910079883.228.01.2019CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) NEGATIVE PHOTORESIST MATERIAL AND COLOR FILTER
(FR) MATÉRIAU DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE NÉGATIVE ET FILTRE COLORÉ
(ZH) 负性光阻材料及彩色滤光片
Abrégé
(EN)
A negative photoresist material, comprising by weight percentage: 6%-10% resin, 2%-7% of a polyfunctional monomer, 5%-12% of a pigment dispersion, 70%-80% of a solvent, 0.1%-0.2% of an additive, and 0.4%-0.8% of a photoinitiator. The photoinitiator has a main absorption peak at a wavelength of 300-330 nm in an ultraviolet absorption spectrum. When applied to a color resist of a color filter, the present negative photoresist material may effectively improve the problem of high horn biases and prevent the occurrence of light leakage.
(FR)
La présente invention concerne un matériau de résine photosensible négative comprenant, en pourcentage en poids : De 6 % à 10 % de résine, de 2 % à 7 % d'un monomère polyfonctionnel, de 5 % à 12 % d'une dispersion de pigment, de 70 % à 80 % d'un solvant, de 0,1 % à 0,2 % d'un additif et de 0,4 % à 0,8 % d'un photoinitiateur. Le photoinitiateur possède un pic d'absorption principal situé à une longueur d'onde de 300-330 nm dans un spectre d'absorption des ultraviolets. Lorsqu'il est appliqué à une réserve de couleur d'un filtre coloré, le présent matériau de résine photosensible négative peut remédier efficacement au problème de la forte polarisation de cornet et empêcher l'apparition de fuites de lumière.
(ZH)
一种负性光阻材料,以重量百分数计,包括6%~10%的树脂、2%~7%的多官能单体、5%~12%的颜料分散液、70%~80%的溶剂、0.1%~0.2%的添加剂、以及0.4%~0.8%的光引发剂,光引发剂在紫外吸收光谱中在波长300~330纳米处具有主吸收峰。负性光阻材料在应用于彩色滤光片的色阻时,可有效改善牛角偏高问题以及避免漏光现象发生。
Également publié en tant que
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