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1. WO2020118125 - SYSTÈME D'INSPECTION ET DE MÉTROLOGIE À COUPLAGE LÂCHE POUR SURVEILLANCE DE PROCESSUS DE PRODUCTION DE GRAND VOLUME

Numéro de publication WO/2020/118125
Date de publication 11.06.2020
N° de la demande internationale PCT/US2019/064805
Date du dépôt international 06.12.2019
CIB
G01N 21/59 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
17Systèmes dans lesquels la lumière incidente est modifiée suivant les propriétés du matériau examiné
59Transmissivité
H01L 21/66 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66Test ou mesure durant la fabrication ou le traitement
G01B 11/02 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
BMESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
11Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de moyens optiques
02pour mesurer la longueur, la largeur ou l'épaisseur
CPC
G01N 21/9501
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
9501Semiconductor wafers
G01N 2201/126
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
2201Features of devices classified in G01N21/00
12Circuits of general importance; Signal processing
126Microprocessor processing
G01N 2223/305
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
2223Investigating materials by wave or particle radiation
30Accessories, mechanical or electrical features
305computer simulations
G01N 2223/306
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
2223Investigating materials by wave or particle radiation
30Accessories, mechanical or electrical features
306computer control
G01N 23/201
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
23Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
20by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
201by measuring small-angle scattering
G01Q 30/04
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
30Auxiliary means serving to assist or improve the scanning probe techniques or apparatus, e.g. display or data processing devices
04Display or data processing devices
Déposants
  • KLA CORPORATION [US]/[US]
Inventeurs
  • WU, Song
  • XU, Yin
  • SHCHEGROV, Andrei
  • LEE, Lie-Quan Rich
  • ROVIRA, Pablo
  • MADSEN, Jon
Mandataires
  • MCANDREWS, Kevin
  • MORRIS, Elizabeth M.N.
Données relatives à la priorité
16/287,52327.02.2019US
62/776,29206.12.2018US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) LOOSELY COUPLED INSPECTION AND METROLOGY SYSTEM FOR HIGH-VOLUME PRODUCTION PROCESS MONITORING
(FR) SYSTÈME D'INSPECTION ET DE MÉTROLOGIE À COUPLAGE LÂCHE POUR SURVEILLANCE DE PROCESSUS DE PRODUCTION DE GRAND VOLUME
Abrégé
(EN)
A metrology system is disclosed. In one embodiment, the metrology system includes a controller communicatively coupled to a reference metrology tool and an optical metrology tool, the controller including one or more processors configured to: generate a geometric model for determining a profile of a test HAR structure from metrology data from a reference metrology tool; generate a material model for determining one or more material parameters of a test HAR structure from metrology data from the optical metrology tool; form a composite model from the geometric model and the material model; measure at least one additional test HAR structure with the optical metrology tool; and determine a profile of the at least one additional test HAR structure based on the composite model and metrology data from the optical metrology tool associated with the at least one HAR test structure.
(FR)
L'invention concerne un système de métrologie. Selon un mode de réalisation, le système de métrologie comprend un dispositif de commande couplé en communication à un outil de métrologie de référence et à un outil de métrologie optique, le dispositif de commande comprenant un ou plusieurs processeurs configurés pour : générer un modèle géométrique pour déterminer un profil d'une structure HAR d'essai à partir de données de métrologie d'un outil de métrologie de référence ; générer un modèle de matériau pour déterminer un ou plusieurs paramètres de matériau d'une structure HAR d'essai à partir de données de métrologie de l'outil de métrologie optique ; former un modèle composite à partir du modèle géométrique et du modèle de matériau ; mesurer au moins une structure HAR d'essai supplémentaire avec l'outil de métrologie optique ; et déterminer un profil de ladite au moins une structure HAR d'essai supplémentaire sur la base du modèle composite et des données de métrologie de l'outil de métrologie optique associé à ladite au moins une structure d'essai HAR.
Également publié en tant que
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