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1. WO2020117685 - PROCÉDÉS ET APPAREIL DE SÉCHAGE DE MARANGONI

Numéro de publication WO/2020/117685
Date de publication 11.06.2020
N° de la demande internationale PCT/US2019/064027
Date du dépôt international 02.12.2019
CIB
H01L 21/67 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01L 21/321 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du groupe IV de la classification périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
31pour former des couches isolantes en surface, p.ex. pour masquer ou en utilisant des techniques photolithographiques; Post-traitement de ces couches; Emploi de matériaux spécifiés pour ces couches
3205Dépôt de couches non isolantes, p.ex. conductrices ou résistives, sur des couches isolantes; Post-traitement de ces couches
321Post-traitement
CPC
H01L 21/02057
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
02041Cleaning
02057Cleaning during device manufacture
H01L 21/67034
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67017Apparatus for fluid treatment
67028for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
67034for drying
H01L 21/67057
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67017Apparatus for fluid treatment
67028for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
6704for wet cleaning or washing
67057with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
Déposants
  • APPLIED MATERIALS, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • VELAZQUEZ, Edwin
  • RANGARAJAN, Jagan
Mandataires
  • PATTERSON, B. Todd
  • STEVENS, Joseph J.
Données relatives à la priorité
62/774,74603.12.2018US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHODS AND APPARATUS FOR MARANGONI DRYING
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREIL DE SÉCHAGE DE MARANGONI
Abrégé
(EN)
A method and apparatus for Marangoni substrate drying is disclosed which includes an adjustable spray bar assembly having mounting brackets coupled to a support structure of a drying system, a base assembly coupled to the mounting brackets and disposed parallel to a face of the support structure, and a mounting assembly coupled to and parallel with the base assembly. The mounting assembly is adjustable in a vertical direction at two distal ends. The mounting assembly includes arms onto which one or more spray bars may be disposed. While secured to the mounting assembly, the one or more spray bars may be rotated about a longitudinal axis.
(FR)
L'invention concerne un procédé et un appareil de séchage de substrat de Marangoni qui comprend un ensemble barre de pulvérisation réglable ayant des supports de montage couplés à une structure de support d'un système de séchage, un ensemble de base couplé aux supports de montage et disposé parallèlement à une face de la structure de support, et un ensemble de montage couplé à l'ensemble de base et parallèle à celui-ci. L'ensemble de montage est réglable dans une direction verticale au niveau de deux extrémités distales. L'ensemble de montage comprend des bras sur lesquels une ou plusieurs barres de pulvérisation peuvent être disposées. Tout en étant fixés à l'ensemble de montage, l'une ou plusieurs barres de pulvérisation peuvent tourner autour d'un axe longitudinal.
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