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1. WO2020115868 - CORPS FRITTÉ EN CÉRAMIQUE ET SUBSTRAT POUR DISPOSITIF SEMICONDUCTEUR

Numéro de publication WO/2020/115868
Date de publication 11.06.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2018/044942
Date du dépôt international 06.12.2018
CIB
C04B 35/119 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
04CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
BCHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
35Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
01à base d'oxydes
10à base d'oxyde d'aluminium
111Céramiques fines
117Composites
119avec de l'oxyde de zirconium
Déposants
  • 日本碍子株式会社 NGK INSULATORS, LTD. [JP]/[JP]
  • NGKエレクトロデバイス株式会社 NGK ELECTRONICS DEVICES, INC. [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 梅田 勇治 UMEDA, Yuji
  • 大上 純史 OOGAMI, Jyunji
Mandataires
  • 新樹グローバル・アイピー特許業務法人 SHINJYU GLOBAL IP
Données relatives à la priorité
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) CERAMIC SINTERED BODY AND SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) CORPS FRITTÉ EN CÉRAMIQUE ET SUBSTRAT POUR DISPOSITIF SEMICONDUCTEUR
(JA) セラミックス焼結体及び半導体装置用基板
Abrégé
(EN)
In this ceramic sintered body (3), the Zr content is 17.5-23.5 mass% in terms of ZrO2, the Hf content is 0.3-0.5 mass% in terms of HfO2, the Al content is 74.3-80.7 mass% in terms of Al2O3, the Y content is 0.8-1.9 mass% in terms of Y2O3, the Mg content is 0.1-0.8 mass% in terms of MgO, the Si content is 0.1-1.5 mass% in terms of SiO2, the Ca content is 0.03-0.35 mass% in terms of CaO, the total of the Na content and the K content is 0.01-0.10 mass% when the Na content is in terms of Na2O and the K content is in terms of K2O, and the balance content is 0.05 mass% or less in terms of oxides. The sum of the Mg content in terms of MgO, the Si content in terms of SiO2, the Ca content in terms of CaO, the Na content in terms of Na2O, the K content in terms of K2O, and the balance content is 0.3-2.0 mass%.
(FR)
Dans ce corps fritté en céramique (3), la teneur en Zr est de 17,5 à 23,5 % en masse en termes de ZrO2, la teneur en Hf est de 0,3 à 0,5 % en masse en termes de HfO2, la teneur en Al est de 74,3 à 80,7 % en masse en termes d'Al2O3, la teneur en Y est de 0,8 à 1,9 % en masse en termes de Y2O3, la teneur en Mg est de 0,1 à 0,8 % en masse en termes de MgO, la teneur en Si est de 0,1 à 1,5 % en masse en termes de SiO2, la teneur en Ca est de 0,03 à 0,35 % en masse en termes de CaO, le total de la teneur en Na et de la teneur en K est de 0,01 à 0,10 % en masse lorsque la teneur en Na est exprimée en termes de Na2O et la teneur en K est exprimée en termes de K2O, tandis que le reste du contenu représente 0,05 % en masse ou moins en termes d'oxydes. La somme de la teneur en Mg en termes de MgO, de la teneur en Si en termes de SiO2, de la teneur en Ca en termes de CaO, de la teneur en Na en termes de Na2O, de la teneur en K en termes de K2O et du reste du contenu est de 0,3 à 2,0 % en masse.
(JA)
セラミックス焼結体(3)において、Zrの含有量は、ZrO換算で、17.5質量%以上23.5質量%以下であり、Hfの含有量は、HfO換算で、0.3質量%以上0.5質量%以下であり、Alの含有量は、Al換算で、74.3質量%以上80.7質量%以下であり、Yの含有量は、Y換算で、0.8質量%以上1.9質量%以下であり、Mgの含有量は、MgO換算で、0.1質量%以上0.8質量%以下であり、Siの含有量は、SiO換算で、0.1質量%以上1.5質量%以下であり、Caの含有量は、CaO換算で、0.03質量%以上0.35質量%以下であり、Na及びKの合計含有量は、Naの含有量をNaO換算とし、Kの含有量をKO換算とした場合、0.01質量%以上0.10質量%以下であり、残部の含有量は、酸化物換算で、0.05質量%以下である。MgのMgO換算の含有量、SiのSiO換算の含有量、CaのCaO換算の含有量、NaのNaO換算の含有量、KのKO換算の含有量、及び残部の含有量の和は、0.3質量%以上2.0質量%以下である。
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