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1. WO2020115204 - PROCÉDÉ DE REMPLACEMENT D'UN MIROIR DANS UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION, ET DISPOSITIF DE MESURE DE POSITION ET D'ORIENTATION SERVANT À EFFECTUER LE PROCÉDÉ

Numéro de publication WO/2020/115204
Date de publication 11.06.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2019/083811
Date du dépôt international 05.12.2019
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/70141
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70141Illumination system adjustment, alignment during assembly of illumination system
G03F 7/7085
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
7085Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
Déposants
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Inventeurs
  • PETRI, Christoph
  • RUNDE, Daniel
  • BAUMER, Florian
  • MÜLLER, Ulrich
Mandataires
  • RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB
Données relatives à la priorité
10 2018 221 128.006.12.2018DE
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR REPLACING A MIRROR IN A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND POSITION- AND ORIENTATION DATA MEASURING DEVICE FOR CARRYING OUT THE METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE REMPLACEMENT D'UN MIROIR DANS UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION, ET DISPOSITIF DE MESURE DE POSITION ET D'ORIENTATION SERVANT À EFFECTUER LE PROCÉDÉ
Abrégé
(EN)
When replacing a mirror in a projection exposure apparatus, a mirror for replacement is initially removed (41). Position- and orientation data of the removed mirror for replacement are measured (43) by a position- and orientation data measuring device. Furthermore, position- and orientation data of a replacement mirror, which should be inserted in place of the mirror for replacement, are measured (46) using the position- and orientation data measuring device. Bearing points of the replacement mirror are reworked (48) on the basis of ascertained differences between, firstly, the position- and orientation data of the mirror for replacement and, secondly, the position- and orientation data of the replacement mirror. The reworked replacement mirror is installed (54). This yields a mirror replacement method, in which an adjustment outlay of the replacement mirror in the projection exposure apparatus is reduced.
(FR)
Selon la présente invention, un miroir nécessitant un remplacement est initialement retiré (41) lors du remplacement d'un miroir dans un appareil d'exposition par projection. Des données de position et d'orientation du miroir retiré nécessitant le remplacement sont mesurées (43) par un dispositif de mesure de données de position et d'orientation. En outre, des données de position et d'orientation d'un miroir de remplacement devant être inséré à la place du miroir nécessitant le remplacement sont mesurées (46) à l'aide du dispositif de mesure de données de position et d'orientation. Des points d'appui du miroir de remplacement sont retravaillés (48) sur la base de différences déterminées entre, d'une part, les données de position et d'orientation du miroir nécessitant le remplacement, et, d'autre part, les données de position et d'orientation du miroir de remplacement. Le miroir de remplacement retravaillé est installé (54). Ceci permet d'obtenir un procédé de remplacement de miroir dans lequel une complexité d'ajustement du miroir de remplacement dans l'appareil d'exposition par projection est réduite.
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