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1. WO2020115090 - SOUS-COUCHES NEUTRES RAPIDEMENT RÉTICULABLES POUR AUTO-ASSEMBLAGE POUR TROUS DE CONTACT DE COPOLYMÈRES DIBLOCS POLYSTYRÈNE-B-POLY(MÉTHACRYLATE DE MÉTHYLE) ET LEUR FORMULATION

Numéro de publication WO/2020/115090
Date de publication 11.06.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2019/083589
Date du dépôt international 04.12.2019
CIB
C08F 220/14 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
FCOMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
220Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10Esters
12des alcools ou des phénols monohydriques
14Esters méthyliques
C09D 133/12 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
09COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
DCOMPOSITIONS DE REVÊTEMENT, p.ex. PEINTURES, VERNIS OU VERNIS-LAQUES; APPRÊTS EN PÂTE; PRODUITS CHIMIQUES POUR ENLEVER LA PEINTURE OU L'ENCRE; ENCRES; CORRECTEURS LIQUIDES; COLORANTS POUR BOIS; PRODUITS SOLIDES OU PÂTEUX POUR COLORIAGE OU IMPRESSION; EMPLOI DE MATÉRIAUX À CET EFFET
133Compositions de revêtement à base d'homopolymères ou de copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un seul radical carboxyle, ou ses sels, anhydrides, esters, amides, imides ou nitriles; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
04Homopolymères ou copolymères d'esters
06d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'atome d'oxygène faisant uniquement partie du radical carboxyle
10Homopolymères ou copolymères d'esters de l'acide méthacrylique
12Homopolymères ou copolymères du méthacrylate de méthyle
CPC
C08F 220/14
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
220Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
10Esters
12of monohydric alcohols or phenols
14Methyl esters ; , e.g. methyl (meth)acrylate
C09D 133/12
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
133Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
04Homopolymers or copolymers of esters
06of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
10Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
12Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
G03F 7/00
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
H01L 21/00
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
Déposants
  • MERCK PATENT GMBH [DE]/[DE]
Inventeurs
  • BASKARAN, Durairaj
  • RAHMAN, Md S.
  • MONREAL, Victor
Mandataires
  • RIPPEL, Hans Christoph
Données relatives à la priorité
62/776,80207.12.2018US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) RAPID CROSS-LINKABLE NEUTRAL UNDERLAYERS FOR CONTACT HOLE SELF-ASSEMBLY OF POLYSTYRENE-B- POLY(METHYL METHACRYLATE) DIBLOCK COPOLYMERS AND THEIR FORMULATION THEREOF
(FR) SOUS-COUCHES NEUTRES RAPIDEMENT RÉTICULABLES POUR AUTO-ASSEMBLAGE POUR TROUS DE CONTACT DE COPOLYMÈRES DIBLOCS POLYSTYRÈNE-B-POLY(MÉTHACRYLATE DE MÉTHYLE) ET LEUR FORMULATION
Abrégé
(EN)
The present invention relates to a random copolymer comprising repeat units of structure (I), (II), (III), and (IV). The invention also pertains to a neutral layer composition comprised of said random copolymer and also pertains to the use of said neutral layer composition to make a crosslinked neutral layer film on a substrate, which can enable self-assembly of a film of a block copolymer overlying said crosslinked neutral layer, wherein said block copolymer contains etch resistant and etchable block, and whose self-assembled pattern is used, through etching, to create either an array of contact holes or posts in said substrate.
(FR)
La présente invention concerne un copolymère statistique comprenant des motifs répétés de structure (I), (II), (III) et (IV). L'invention concerne également une composition de couche neutre constituée dudit copolymère statistique et concerne également l'utilisation de ladite composition de couche neutre pour fabriquer un film de couche neutre réticulé sur un substrat, qui peut permettre l'auto-assemblage d'un film d'un copolymère séquencé recouvrant ladite couche neutre réticulée, ledit copolymère séquencé contenant un bloc résistant à la gravure et pouvant être gravé, et dont le motif auto-assemblé est utilisé, par gravure, pour créer soit un réseau de trous de contact, soit des tiges dans ledit substrat.
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