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1. WO2020113795 - MATÉRIAU DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE NÉGATIVE ET SON APPLICATION


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INTERNATIONAL SEARCH REPORT (ISR)
Part 1:  1  2  3  4  5  6          Part 2:  A  B  C  D  E 
国际申请号 申请人或代理人的档案号
PCT/CN2019/072425 TP181807PCT
国际申请日 (年/月/日) (最早的)优先权日 (年/月/日)
2019年 1月 18日 2018年 12月 3日
申请人
深圳市华星光电技术有限公司
关于后续行为: 见PCT/ISA/220表和 适用时,见下面第5项
按照条约第18条,本国际检索报告由本国际检索单位做出并送交申请人。报告副本送交国际局。
它还附有本报告所引用的各现有技术文件的副本。
1. 报告的基础
a. 关于语言,进行国际检索基于:
国际申请提交时使用的语言。
该国际申请的                                          语言译文,为了国际检索的目的提供该种语言的译文(细则12.3(a)和23.1(b))。
b.
本国际检索报告考虑了本单位许可或被通知的根据细则91所做出的明显错误更正(细则43.6之二(a))。
c.
关于国际申请中所公开的任何核苷酸和/或氨基酸序列,国际检索是基于下列序列表进行的:
2. 某些权利要求被认为是不能检索的
3. 缺乏发明的单一性
4. 发明名称
同意申请人提出的发明名称。
发明名称由本单位确定如下:
5. 摘要
同意申请人提出的摘要。
根据细则38.2(b),摘要由本单位制定,如第IV栏中所示。自本国际检索报告发文日起一个月内,申请人可以向本单位提出意见。

一种负性光刻胶及其应用,负性光刻胶含有邻苯二酚基团。负性光刻胶涂覆并固化于硅基底(1)的表面形成负性光阻(2),硅基底(1)的表面具有羟基结构,负性光刻胶具有邻苯二酚基团,邻苯二酚基团中的羟基结构与硅基底(1)的羟基结构之间形成氢键结构。通过在负性光刻胶内加入带有邻苯二酚基团的化合物,使得邻苯二酚基团中的羟基与硅基底(1)中的羟基形成氢键,以提高由负性光刻胶形成的负性光阻(2)与硅基底(1)之间的粘附力。


6. 附图
a.
随摘要一起公布的附图是:     1    
按照申请人建议的。
由本单位选择的,因为申请人没有建议一幅图。
由本单位选择的,因为该图能更好地表示发明的特征。
b.
没有与摘要一起公布的附图

A. 主题的分类

按照国际专利分类(IPC)或者同时按照国家分类和IPC两种分类

B. 检索领域

检索的最低限度文献(标明分类系统和分类号):
     G03F7/-
包含在检索领域中的除最低限度文献以外的检索文献:
在国际检索时查阅的电子数据库(数据库的名称,和使用的检索词(如使用)):
CNPAT, CNKI, WPI, EPODOC: 负型, 负性, 光刻胶, 抗蚀剂, 光阻, 邻苯二酚, 儿茶酚, 二羟基苯, 硅, 衬底, 基底, 基板, 基材, 粘附, 附着, 密合, 粘接, 密着, 粘结, 黏结, 键合, 键结, 键接, 连接, 羟基, 氢键, 树脂, 共聚物, 聚合物, 侧链, 双键, 不饱和键, 烯键, Si, silicon, substrate?, catechol, pyrocatechol, dihydroxybenzene, adhe+, resist, photosensitive, negative, resin, polymer, copolymer, side w chain, double, unsaturated, ethylene+, bond

C. 相关文件

类 型* 引用文件,必要时,指明相关段落 相关的权利要求
(1)
X
JP 2004004528 A (HITACHI CHEMICAL CO., LTD.) 2004年 1月 8日 (2004-01-08)
1
说明书第[0051]、[0055]-[0057]段
(2)
Y
CN 107501478 A (深圳市华星光电技术有限公司) 2017年 12月 22日 (2017-12-22)
1-10
说明书第[0004]-[0041]、[0102]-[0107]段
(3)
Y
CN 108693713 A (信越化学工业株式会社) 2018年 10月 23日 (2018-10-23)
1-10
说明书第[0118]-[0123]段
(4)
Y
CN 106691874 A (北京化工大学 等) 2017年 5月 24日 (2017-05-24)
2,6
说明书第[0003]-[0020]段
(5)
A
CN 106233202 A (汉阳大学校产学协力团) 2016年 12月 14日 (2016-12-14)
1-10
全文
(6)
A
JP 2011013588 A (JSR CORP.) 2011年 1月 20日 (2011-01-20)
1-10
全文
*
引用文件的具体类型:
"A"
认为不特别相关的表示了现有技术一般状态的文件
"D"
申请人在国际申请中引证的文件
"E"
在国际申请日的当天或之后公布的在先申请或专利
"L"
可能对优先权要求构成怀疑的文件,或为确定另一篇引用文件的公布日而引用的或者因其他特殊理由而引用的文件(如具体说明的)
"O"
涉及口头公开、使用、展览或其他方式公开的文件
"P"
公布日先于国际申请日但迟于所要求的优先权日的文件
"T"
在申请日或优先权日之后公布,与申请不相抵触,但为了理解发明之理论或原理的在后文件
"X"
特别相关的文件,单独考虑该文件,认定要求保护的发明不是新颖的或不具有创造性
"Y"
特别相关的文件,当该文件与另一篇或者多篇该类文件结合并且这种结合对于本领域技术人员为显而易见时,要求保护的发明不具有创造性
"&"
同族专利的文件

D. 关于同族专利的信息

检索报告引用的专利文件 公布日
(年/月/日)
同族专利 公布日
(年/月/日)
JP 2004004528 A
2004年 1月 8日
JP 3797331 B2
2006年 7月 19日
CN 107501478 A
2017年 12月 22日
CN 108693713 A
2018年 10月 23日
TW 201842421 A
JP 2018173521 A
US 2018284614 A1
EP 3382453 A1
KR 20180111587 A
TW I657319 B
2018年 12月 1日
2018年 11月 8日
2018年 10月 4日
2018年 10月 3日
2018年 10月 11日
2019年 4月 21日
CN 106691874 A
2017年 5月 24日
CN 106233202 A
2016年 12月 14日
WO 2015160185 A1
US 2017038675 A1
US 9958770 B2
KR 20150121292 A
KR 20150121293 A
KR 101676095 B1
KR 101680937 B1
2015年 10月 22日
2017年 2月 9日
2018年 5月 1日
2015年 10月 29日
2015年 10月 29日
2016年 11月 16日
2016年 11月 30日
JP 2011013588 A
2011年 1月 20日
ISA/CN的名称和邮寄地址 :
中国国家知识产权局(ISA/CN)
中国北京市海淀区蓟门桥西土城路6号 100088
传真号 (86-10)62019451
国际检索实际完成的日期:
2019年 8月 12日
国际检索报告邮寄日期:
2019年 9月 2日
受权官员:
王妍
电话号码 86-(10)-53962401
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