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1. WO2020113730 - DISPOSITIF D'ÉVAPORATION

Numéro de publication WO/2020/113730
Date de publication 11.06.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2018/125200
Date du dépôt international 29.12.2018
CIB
C23C 14/24 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22caractérisé par le procédé de revêtement
24Evaporation sous vide
CPC
C23C 14/24
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
24Vacuum evaporation
Déposants
  • 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 李朝 LI, Zhao
Mandataires
  • 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) ESSEN PATENT&TRADEMARK AGENCY
Données relatives à la priorité
201811470696.904.12.2018CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) EVAPORATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ÉVAPORATION
(ZH) 蒸发装置
Abrégé
(EN)
Disclosed is an evaporation device, comprising a base (4); at least one evaporation source (2) arranged on a side surface of the base (4), wherein the evaporation source (2) comprises a nozzle (21) arranged at the top of the evaporation source (2); more than two angle limiting plates (1), arranged on a side surface of the base (4) and respectively arranged on two sides of the evaporation source (2), wherein the height of the angle limiting plate (1) is higher than the height of the nozzle (21); and a movable assembly (3) connected to the angle limiting plates (1), wherein the angle limiting plate (1) has an opening (11). The technical effects lie in that the angle limiting plate (1) with an opening (11) in the middle thereof can not only limit an evaporation angle of a material, but can also reduce the accumulation and growth of the material on the angle limiting plate (1) and thereby reduce the risk of blocking the nozzle (21) of the evaporation source; and angle limiting plates with various structures can meet the requirements of different evaporation materials, different evaporation processes, and different evaporation cavity structures.
(FR)
L'invention concerne un dispositif d'évaporation comprenant une base (4) ; au moins une source d'évaporation (2) disposée sur une surface latérale de la base (4), la source d'évaporation (2) comprenant une buse (21) disposée au sommet de la source d'évaporation (2) ; plus de deux plaques de limitation d'angle (1), disposées sur une surface latérale de la base (4) et agencées respectivement sur deux côtés de la source d'évaporation (2), la hauteur de la plaque de limitation d'angle (1) étant supérieure à la hauteur de la buse (21) ; et un ensemble mobile (3) relié aux plaques de limitation d'angle (1), la plaque de limitation d'angle (1) comportant une ouverture (11). Les effets techniques résident dans le fait que la plaque de limitation d'angle (1) comportant une ouverture (11) en son centre peut non seulement limiter un angle d'évaporation d'un matériau, mais peut aussi réduire l'accumulation et la croissance du matériau sur la plaque de limitation d'angle (1) et ainsi réduire le risque de blocage de la buse (21) de la source d'évaporation ; et dans le fait que des plaques de limitation d'angle présentant diverses structures peuvent satisfaire aux exigences de différents matériaux d'évaporation, de différents procédés d'évaporation et de différentes structures de cavité d'évaporation.
(ZH)
一种蒸发装置,包括:一底座(4);至少一蒸发源(2),设于所述底座(4)的一侧表面,所述蒸发源(2)包括一喷嘴(21),设于所述蒸发源(2)的顶部;二个以上角度限制板(1),设于所述底座(4)的一侧表面,分别设于一蒸发源(2)的两侧,所述角度限制板(1)的高度高于所述喷嘴(21)的高度;以及一移动组件(3),连接至所述角度限制板(1);其中,所述角度限制板(1)上有一开口(11)。技术效果在于,中部开口(11)的角度限制板(1)既可以起到限制材料蒸发角度的作用,又可以减少材料在角度限制板(1)上的聚集生长而降低蒸发源喷嘴(21)堵孔风险;多种结构的角度限制板可以满足不同蒸镀材料、不同蒸镀工艺、不同蒸镀腔体构造的需求。
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