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1. WO2020113590 - DISPOSITIFS DE MÉMOIRE TRIDIMENSIONNELLE ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION

Numéro de publication WO/2020/113590
Date de publication 11.06.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2018/119933
Date du dépôt international 07.12.2018
CIB
H01L 27/115 2017.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
02comprenant des composants semi-conducteurs spécialement adaptés pour le redressement, l'amplification, la génération d'oscillations ou la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
04le substrat étant un corps semi-conducteur
10comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration répétitive
105comprenant des composants à effet de champ
112Structures de mémoires mortes
115Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs
CPC
H01L 21/76224
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
71Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
76Making of isolation regions between components
762Dielectric regions ; , e.g. EPIC dielectric isolation, LOCOS; Trench refilling techniques, SOI technology, use of channel stoppers
76224using trench refilling with dielectric materials
H01L 21/76802
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
71Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
768Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device ; comprising conductors and dielectrics
76801characterised by the formation and the after-treatment of the dielectrics, e.g. smoothing
76802by forming openings in dielectrics
H01L 21/76877
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
71Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
768Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device ; comprising conductors and dielectrics
76838characterised by the formation and the after-treatment of the conductors
76877Filling of holes, grooves or trenches, e.g. vias, with conductive material
H01L 21/76898
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
71Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
768Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device ; comprising conductors and dielectrics
76898formed through a semiconductor substrate
H01L 23/481
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
23Details of semiconductor or other solid state devices
48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements
481Internal lead connections, e.g. via connections, feedthrough structures
H01L 23/5226
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
23Details of semiconductor or other solid state devices
52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another ; , i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
522including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
5226Via connections in a multilevel interconnection structure
Déposants
  • YANGTZE MEMORY TECHNOLOGIES CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventeurs
  • XIAO, Li Hong
  • HUO, Zongliang
Mandataires
  • NTD UNIVATION INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY LTD.
Données relatives à la priorité
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) THREE-DIMENSIONAL MEMORY DEVICES AND FABRICATING METHODS THEREOF
(FR) DISPOSITIFS DE MÉMOIRE TRIDIMENSIONNELLE ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abrégé
(EN)
A method for forming a gate structure of a 3D memory device is provided. The method comprises: forming multiple hybrid shallow trench isolation structures in a substrate; forming an alternating dielectric stack on the substrate, the alternating dielectric stack including multiple dielectric layer pairs each comprising a first dielectric layer and a second dielectric layer different from the first dielectric layer; forming multiple channel structures in the alternating dielectric stack; forming a slit penetrating vertically through the alternating dielectric stack and extending in a horizontal direction to divide the multiple channel structures and to expose a row of hybrid shallow trench isolation structures; replacing the second dielectric layers in the alternating dielectric stack with multiple gate structures through the slit; forming a spacer wall to fill the slit; and forming multiple array common source contacts each in electric contact with a corresponding hybrid shallow trench isolation structure.
(FR)
La présente invention concerne un procédé de formation d'une structure de grille d'un dispositif de mémoire 3D. Le procédé consiste à : former de multiples structures d'isolation de tranchée peu profonde hybrides dans un substrat ; former un empilement diélectrique alterné sur le substrat, l'empilement diélectrique alterné comprenant de multiples paires de couches diélectriques comprenant chacune une première couche diélectrique et une seconde couche diélectrique différente de la première couche diélectrique ; former de multiples structures de canal dans l'empilement diélectrique alterné ; former une fente pénétrant verticalement à travers l'empilement diélectrique alterné et s'étendant dans une direction horizontale pour diviser les multiples structures de canal et pour exposer une rangée de structures d'isolation de tranchée peu profonde hybride ; remplacer les secondes couches diélectriques dans l'empilement diélectrique alterné avec de multiples structures de grille à travers la fente ; former une paroi d'espacement pour remplir la fente ; et former de multiples contacts de source commune de réseau chacun en contact électrique avec une structure d'isolation de tranchée peu profonde hybride correspondante.
Également publié en tant que
CN201880002790.3
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