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1. WO2020110410 - DISPOSITIF, PROCÉDÉ ET PROGRAMME D'AIDE À LA SPÉCIFICATION DE SOURCE DE FUITE

Numéro de publication WO/2020/110410
Date de publication 04.06.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2019/035311
Date du dépôt international 09.09.2019
CIB
G01M 3/02 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
MTEST D'ÉQUILIBRAGE STATIQUE OU DYNAMIQUE DES MACHINES OU DES STRUCTURES OU DES OUVRAGES; TEST DES STRUCTURES, DES OUVRAGES OU DES APPAREILS, NON PRÉVU AILLEURS
3Examen de l'étanchéité des structures ou ouvrages vis-à-vis d'un fluide
02par utilisation d'un fluide ou en faisant le vide
G01M 3/38 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
MTEST D'ÉQUILIBRAGE STATIQUE OU DYNAMIQUE DES MACHINES OU DES STRUCTURES OU DES OUVRAGES; TEST DES STRUCTURES, DES OUVRAGES OU DES APPAREILS, NON PRÉVU AILLEURS
3Examen de l'étanchéité des structures ou ouvrages vis-à-vis d'un fluide
38par utilisation de la lumière
CPC
G01M 3/02
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
3Investigating fluid-tightness of structures
02by using fluid or vacuum
G01M 3/38
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
3Investigating fluid-tightness of structures
38by using light
Déposants
  • コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA, INC. [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 浅野 基広 ASANO, Motohiro
Mandataires
  • 小谷 悦司 KOTANI, Etsuji
  • 小谷 昌崇 KOTANI, Masataka
  • 櫻井 智 SAKURAI, Satoshi
Données relatives à la priorité
2018-22121527.11.2018JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) LEAK SOURCE SPECIFICATION ASSISTANCE DEVICE, LEAK SOURCE SPECIFICATION ASSISTANCE METHOD, AND LEAK SOURCE SPECIFICATION ASSISTANCE PROGRAM
(FR) DISPOSITIF, PROCÉDÉ ET PROGRAMME D'AIDE À LA SPÉCIFICATION DE SOURCE DE FUITE
(JA) 漏洩源特定支援装置、漏洩源特定支援方法、及び、漏洩源特定支援プログラム
Abrégé
(EN)
A leak source specification assistance device that comprises a processing part that: performs processing that, on the basis of the movement of a first pixel that is one of the pixels that constitute an image that includes a leaked fluid region (a gas region), determines a second pixel that is one of the pixels that constitute the image and is a movement origin pixel for the first pixel; and determines a final movement origin pixel by repeating the processing using the second pixel as a new first pixel. The processing part determines a final movement origin pixel for each of the plurality of pixels that constitute the image by repeating the processing for each of the plurality of pixels.
(FR)
L'invention concerne un dispositif d'aide à la spécification de source de fuite comprenant une partie de traitement qui : effectue un traitement qui, sur la base du mouvement d'un premier pixel qui est l'un des pixels constituant une image composée d'une zone de fluide (une zone de gaz) qui fuit, détermine un second pixel qui est l'un des pixels constituant l'image et qui est un pixel d'origine de mouvement pour le premier pixel ; et détermine un pixel d'origine de mouvement final en répétant le traitement à l'aide du second pixel en tant que nouveau premier pixel. La partie de traitement détermine un pixel d'origine de mouvement final pour chaque pixel de la pluralité de pixels qui constituent l'image en répétant le traitement pour chaque pixel de la pluralité de pixels.
(JA)
漏洩源特定支援装置は、漏洩流体領域(ガス領域)を含む画像を構成する画素の1つである第1画素の動きを基にして、前記画像を構成する前記画素の1つであり、前記第1画素の移動元画素となる第2画素を決定する処理をし、前記第2画素を新たな前記第1画素として、前記処理を繰り返すことにより、最終移動元画素を決定する処理部を備え、前記処理部は、前記画像を構成する複数の前記画素のそれぞれについて、前記処理を繰り返すことにより、複数の前記画素のそれぞれについて、前記最終移動元画素を決定する。
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