Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2020109225 - MIROIR POUR UNE UNITÉ OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION COMPRENANT UN FILTRE SPECTRAL SOUS LA FORME D'UNE STRUCTURE DE RÉSEAU ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILTRE SPECTRAL SOUS LA FORME D'UNE STRUCTURE DE RÉSEAU SUR UN MIROIR

Numéro de publication WO/2020/109225
Date de publication 04.06.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2019/082407
Date du dépôt international 25.11.2019
CIB
G02B 5/08 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
08Miroirs
G02B 27/42 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes G02B1/-G02B26/117
42Optique de diffraction
G02B 5/18 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
18Grilles de diffraction
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G02B 27/425
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
42Diffraction optics ; , i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
4233having a diffractive element [DOE] contributing to a non-imaging application
425in illumination systems
G02B 5/0891
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
0891Ultraviolet [UV] mirrors
G02B 5/1861
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
1861Reflection gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
G03F 7/70058
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
G03F 7/702
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
702Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors
Déposants
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Inventeurs
  • JALICS, Christof
  • SCHUSTER, Fabian
  • KIEREY, Holger
  • SANDNER, Andreas
  • MEISCH, Tobias
Mandataires
  • RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB
Données relatives à la priorité
10 2018 220 629.529.11.2018DE
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) MIRROR FOR AN ILLUMINATION OPTICAL UNIT OF A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING A SPECTRAL FILTER IN THE FORM OF A GRATING STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING A SPECTRAL FILTER IN THE FORM OF A GRATING STRUCTURE ON A MIRROR
(FR) MIROIR POUR UNE UNITÉ OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION COMPRENANT UN FILTRE SPECTRAL SOUS LA FORME D'UNE STRUCTURE DE RÉSEAU ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILTRE SPECTRAL SOUS LA FORME D'UNE STRUCTURE DE RÉSEAU SUR UN MIROIR
Abrégé
(EN)
A mirror for an illumination optical unit (4) of a projection exposure apparatus (1) comprises a spectral filter in the form of a grating structure (30), wherein the grating structure (30) has a maximum edge steepness (b) in the range of 15° to 60°.
(FR)
L'invention concerne un miroir destiné à une unité optique d'éclairage (4) d'un appareil d'exposition par projection (1) qui comprend un filtre spectral sous la forme d'une structure de réseau (30), la structure de réseau (30) ayant une pente de bord maximale (b) dans la plage de 15° à 60°.
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international