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1. WO2020108984 - SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE REFROIDISSEMENT DE LENTILLE D'OBJECTIF D'UN SYSTÈME À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES

Numéro de publication WO/2020/108984
Date de publication 04.06.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2019/081070
Date du dépôt international 12.11.2019
CIB
H01J 37/141 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
04Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
10Lentilles
14magnétiques
141Lentilles électromagnétiques
B33Y 80/00 2015.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
33TECHNOLOGIE DE FABRICATION ADDITIVE
YFABRICATION ADDITIVE, c. à d. FABRICATION D’OBJETS EN TROIS DIMENSIONS PAR DÉPÔT ADDITIF, AGGLOMÉRATION ADDITIVE OU STRATIFICATION ADDITIVE, p.ex. PAR IMPRESSION EN 3D, STÉRÉOLITHOGRAPHIE OU FRITTAGE LASER SÉLECTIF
80Produits obtenus par fabrication additive
CPC
B33Y 80/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
80Products made by additive manufacturing
H01J 2237/002
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
002Cooling arrangements
H01J 2237/1405
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
10Lenses
14magnetic
1405Constructional details
H01J 2237/2817
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
26Electron or ion microscopes
28Scanning microscopes
2813characterised by the application
2817Pattern inspection
H01J 37/141
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
10Lenses
14magnetic
141Electromagnetic lenses
Déposants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventeurs
  • GOSEN, Jeroen, Gerard
  • HOL, Sven, Antoin, Johan
  • VAN HEUMEN, Martijn, Petrus, Christianus
  • VAN BANNING, Dennis, Herman, Caspar
  • HOSSEINI, Naseh
Mandataires
  • PETERS, John Antoine
Données relatives à la priorité
62/773,97230.11.2018US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SYSTEMS AND METHODS OF COOLING OBJECTIVE LENS OF A CHARGED-PARTICLE BEAM SYSTEM
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE REFROIDISSEMENT DE LENTILLE D'OBJECTIF D'UN SYSTÈME À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Abrégé
(EN)
Systems and methods for cooling an objective lens of a charged- particle beam system are disclosed. According to certain embodiments, the method for cooling an objective lens of a charged- particle beam system comprises receiving a fluid via a fluid input port (432) of a bobbin (320), circulating the fluid that absorbs heat generated by a plurality of electromagnetic coils of the objective lens, via a plurality of channels (335,635) distributed in the bobbin, and dispensing the fluid circulated by the plurality of channels via a fluid output port (532) of the bobbin. The bobbin may further comprise a bottom flange (520) proximal to a wafer and a top flange (510) distal from the wafer. The bobbin having the plurality of channels may comprise an additively manufactured monolithic structure.
(FR)
La présente invention concerne des systèmes et des procédés de refroidissement d'une lentille d'objectif d'un système à faisceau de particules chargées. Selon certains modes de réalisation, le procédé de refroidissement d'une lentille d'objectif d'un système à faisceau de particules chargées consiste à recevoir un fluide par un orifice d'entrée de fluide d'une bobine, à faire circuler le fluide qui absorbe la chaleur produite par une pluralité de bobines électromagnétiques de la lentille d'objectif, par l'intermédiaire d'une pluralité de canaux répartis dans la bobine, et à distribuer le fluide mis en circulation par la pluralité de canaux par un orifice de sortie de fluide de la bobine. La bobine peut en outre comprendre une bride inférieure proximale à une tranche et une bride supérieure distale par rapport à la tranche. La bobine comportant la pluralité de canaux peut comprendre une structure monolithique fabriquée de manière additive.
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