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1. WO2020108420 - PHOTO-INITIATEUR HYBRIDE À BASE D'HEXAARYLBIIMIDAZOLE

Numéro de publication WO/2020/108420
Date de publication 04.06.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2019/120523
Date du dépôt international 25.11.2019
CIB
G03F 7/031 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
027Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
028avec des substances accroissant la photosensibilité, p.ex. photo-initiateurs
031Composés organiques non couverts par le groupe G03F7/02975
C07D 233/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
DCOMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
233Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 3 ou diazole-1, 3 hydrogéné, non condensés avec d'autres cycles
CPC
C07D 233/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
233Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
G03F 7/004
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
G03F 7/027
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
G03F 7/031
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
028with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
031Organic compounds not covered by group G03F7/029
Déposants
  • 常州格林感光新材料有限公司 (CHAN-N) CHANGZHOU GREEN PHOTOSENSITIVE MATERIALS CO., LTD [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 钱彬 QIAN, Bin
Mandataires
  • 北京汉德知识产权代理事务所(普通合伙) HANDE INTELLECTUAL PROPERTY FIRM
Données relatives à la priorité
201811451251.630.11.2018CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) HEXAARYLBISIMIDAZOLE HYBRID PHOTOINITIATOR
(FR) PHOTO-INITIATEUR HYBRIDE À BASE D'HEXAARYLBIIMIDAZOLE
(ZH) 六芳基双咪唑混合光引发剂
Abrégé
(EN)
Disclosed is a 2,2'-bis(o-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyldiimidazole hybrid photoinitiator, which contains a compound of formula (I) having a 1-2' connection position and a compound of formula (II) having a 2'-3 connection position, and the sum of the content of the two compounds accounts for 97% or more of the hybrid photoinitiator. The 2,2'-bis(o-chlorophenyl) -4,4',5,5'-tetraphenyldiimidazole hybrid photoinitiator has an excellent photosensibility and a good resolution after being applied to a photosensitive resin composition, which can be widely used in the manufacture of printed circuit boards, protective patterns, conductor patterns, lead frames, semiconductor packages, etc., by means of a dry film and a wet film.
(FR)
Cette invention concerne un photo-initiateur hybride à base de 2,2'-bis(o-chlorophényl-4,4',5,5'-tétraphényldiimidazole, qui contient un composé selon la formule (I) ayant une position de liaison 1-2' et un composé selon la formule (II) ayant une position de liaison 2'-3, et la somme de la teneur des deux composés représentant 97 % ou plus du photo-initiateur hybride. Le photo-initiateur hybride à base de 2,2'-bis(o-chlorophényl) -4,4',5,5'-tétraphényldiimidazole a une excellente photosensibilité et une bonne résolution après avoir été appliqué à une composition de résine photosensible, il peut être largement utilisé dans la fabrication de cartes de circuits imprimés, de motifs de protection, de tracés conducteurs, de grilles de connexion, de boîtiers de semi-conducteurs, etc., au moyen d'un film sec et d'un film humide.
(ZH)
一种2,2'-二(邻氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基二咪唑混合光引发剂,含有具有1-2'连接位的式(I)化合物和具有2'-3连接位的式(II)化合物,且两种化合物的含量之和占该混合光引发剂的97%以上。2,2'-二(邻氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基二咪唑混合光引发剂应用于感光性树脂组合物后感光度优异、分辨率佳,能够通过干膜和湿膜的方式在制造印刷电路板、保护图案、导体图案、引框线、半导体封装等方面得到广泛应用。
Également publié en tant que
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