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1. WO2020108196 - SUBSTRAT D'AFFICHAGE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE

Numéro de publication WO/2020/108196
Date de publication 04.06.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2019/113588
Date du dépôt international 28.10.2019
CIB
H01L 21/77 2017.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
70Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci; Fabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci
77Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun
H01L 27/12 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
02comprenant des composants semi-conducteurs spécialement adaptés pour le redressement, l'amplification, la génération d'oscillations ou la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
12le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
CPC
G03F 7/16
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
16Coating processes; Apparatus therefor
H01L 21/77
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
H01L 27/12
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
27Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
02including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
12the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
Déposants
  • 京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN]/[CN]
  • 合肥鑫晟光电科技有限公司 HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 刘宁 LIU, Ning
  • 周斌 ZHOU, Bin
  • 刘军 LIU, Jun
  • 张扬 ZHANG, Yang
  • 苏同上 SU, Tongshang
  • 王海涛 WANG, Haitao
Mandataires
  • 北京银龙知识产权代理有限公司 DRAGON INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM
Données relatives à la priorité
201811424979.X27.11.2018CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) DISPLAY SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT D'AFFICHAGE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 显示基板及其制作方法、显示装置
Abrégé
(EN)
A display substrate and a method for manufacturing the same, and a display device comprising the display substrate. The method for manufacturing a display substrate comprises: forming an electrically-conductive layer, and forming a first photoresist pattern and a second photoresist pattern on the electrically-conductive layer, wherein a degree of bonding between the first photoresist pattern and the electrically-conductive layer is less than a degree of bonding between the second photoresist pattern and the electrically-conductive layer; and using the first photoresist pattern and the second photoresist pattern as masks to perform etching on the electrically-conductive layer so as to form a first electrically-conductive pattern and a second electrically-conductive pattern, wherein a difference value between line widths of the first electrically-conductive pattern and the first photoresist pattern is greater than a difference value between line widths of the second electrically-conductive pattern and the second photoresist pattern.
(FR)
La présente invention concerne un substrat d'affichage et son procédé de fabrication et un dispositif d'affichage comprenant le substrat d'affichage. Le procédé de fabrication d'un substrat d'affichage comprend : la formation d'une couche électriquement conductrice, et la formation d'un premier motif de résine photosensible et d'un second motif de résine photosensible sur la couche électriquement conductrice, un degré de liaison entre le premier motif de résine photosensible et la couche électriquement conductrice étant inférieur à un degré de liaison entre le second motif de résine photosensible et la couche électriquement conductrice; et l'utilisation du premier motif de résine photosensible et du second motif de résine photosensible en tant que masques pour effectuer une gravure sur la couche électroconductrice de manière à former un premier motif électroconducteur et un second motif électroconducteur, une valeur de différence entre des largeurs de ligne du premier motif électroconducteur et du premier motif de résine photosensible étant supérieure à une valeur de différence entre les largeurs de ligne du second motif électroconducteur et du second motif de résine photosensible.
(ZH)
一种显示基板及其制备方法、以及包含该显示基板的显示装置。所述制备显示基板的方法包括:形成导电层,在所述导电层上形成第一光刻胶图形和第二光刻胶图形,其中,所述第一光刻胶图形与所述导电层的黏附性小于所述第二光刻胶图形与所述导电层的黏附性;以所述第一光刻胶图形和所述第二光刻胶图形为掩膜对所述导电层进行刻蚀,分别形成第一导电图形和第二导电图形,其中,所述第一导电图形与所述第一光刻胶图形的线宽差值大于所述第二导电图形与所述第二光刻胶图形的线宽差值。
Également publié en tant que
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