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1. WO2020107724 - ÉCRAN D'AFFICHAGE OLED

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说明书

发明名称

技术领域

0001  

背景技术

0002   0003   0004  

发明概述

技术问题

0005  

技术解决方案

0006   0007   0008   0009   0010   0011   0012   0013   0014   0015   0016  

有益效果

0017  

附图说明

0018   0019   0020   0021   0022   0023   0024   0025   0026   0027   0028   0029   0030   0031  

本发明的实施方式

0032   0033   0034   0035   0036   0037   0038   0039   0040   0041   0042   0043   0044   0045   0046   0047   0048   0049   0050   0051   0052   0053   0054   0055   0056  

权利要求书

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10  

附图

页1 

说明书

发明名称 : OLED 显示面板

技术领域

技术领域

[0001]
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种OLED显示面板。

背景技术

背景技术

[0002]
有机电致发光显示 (Organic Light Emitting Display,OLED)器件不仅具有十分优异的显示性能,还具有自发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、宽视角、低功耗及可实现柔性显示等特性,被誉为“梦幻显示器”,得到了各大显示器厂家的青睐,已成为显示技术领域中第三代显示器件的主力军。
[0003]
OLED显示面板属于自发射型显示设备,通常包括用作阳极和阴极中的一个的像素电极以及用作阳极和阴极中的另一个的公共电极、以及设在像素电极与公共电极之间的有机发光层,使得在适当的电压被施加于阳极与阴极时,从有机发光层发光。有机发光层包括了设于阳极上的空穴注入层、设于空穴注入层上的空穴传输层、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层、设于电子传输层上的电子注入层,其发光机理为在一定电压驱动下,电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子注入层和空穴注入层,电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层,并在发光层中相遇,形成激子并使发光分子激发,后者经过辐射弛豫而发出可见光。
[0004]
按照发光方向的不同,OLED显示面板包括顶发光型和底发光型两种,其中顶发光型是目前最常用的OLED显示面板类型,如图1所示,其通常包括衬底基板100、设于所述衬底基板100上的TFT层101、设于所述TFT层101上的平坦层102、设于所述平坦层102上的第一电极103、设于所述第一电极103和平坦层102上的像素定义层104、设于所述像素定义层103中暴露出所述第一电极104的一部分的像素定义槽1041、设于所述像素定义槽104中的发光层105、设于所述发光层105和像素定义槽103上的第二电极106以及设于所述第二电极106上的封装层107,其中所述平坦层102和像素定义槽103均为透明膜层,从而使得外部环境光能透过所述平坦层102和像素定义槽103照射到OLED显示面板内的TFT层101上,接着被平坦层102和像素定义槽103反射到人眼中,影响用户的正常观看,因此在现有的OLED显示面板会在表面设置有抗反射层结构,以避免环境光的影响,通常抗反射层结构为圆偏光片,然而圆偏光片的使用将使出光效率下降。

发明概述

技术问题

[0005]
本发明的目的在于提供一种OLED显示面板,能够在不降低出光效率的前提下,避免OLED显示面板反射环境光,提升OLED显示面板的观看体验。

技术解决方案

[0006]
为实现上述目的,本发明提供一种OLED显示面板,包括阵列排布的多个子像素,每一个子像素均包括衬底基板、设于所述衬底基板上的TFT层、设于所述TFT层上的平坦层、设于所述平坦层上的第一电极、设于所述第一电极及平坦层上的像素定义层、设于所述第一电极上的发光层、设于所述发光层及像素定义层上的透明的第二电极及设于所述第二电极上的封装层;
[0007]
所述平坦层和像素定义层中至少一层的一部分采用黑色遮光材料形成。
[0008]
所述平坦层和像素定义层中的一层采用黑色遮光材料形成,另一层采用透明材料形成。
[0009]
所述平坦层及像素定义层均采用黑色遮光材料形成。
[0010]
每一个子像素均具有依次排列的透明区及非透明区,所述第一电极及发光层位于所述非透明区中。
[0011]
所述平坦层和像素定义层同时覆盖所述透明区及非透明区,所述像素定义层及位于透明区中的平坦层采用透明材料形成,位于非透明区中的平坦层采用黑色遮光材料形成。
[0012]
所述平坦层和像素定义层同时覆盖所述透明区及非透明区,所述平坦层及位于透明区中的像素定义层采用透明材料形成,位于非透明区中的像素定义层采用黑色遮光材料形成。
[0013]
所述平坦层和像素定义层同时覆盖所述透明区及非透明区,位于透明区中的平坦层及位于透明区中的像素定义层均采用透明材料形成,位于非透明区中的像素定义层和位于非透明区中的平坦层均采用黑色遮光材料形成。
[0014]
所述平坦层和像素定义层均仅覆盖所述非透明区,所述平坦层及像素定义层均采用黑色遮光材料形成。
[0015]
所述平坦层仅覆盖所述非透明区,所述像素定义层同时覆盖所述非透明区和透明区,所述平坦层采用黑色遮光材料形成,所述像素定义层采用透明材料形成。
[0016]
所述像素定义层仅覆盖所述非透明区,所述平坦层同时覆盖所述非透明区和透明区,所述像素定义层采用黑色遮光材料形成,所述平坦层采用透明材料形成。

有益效果

[0017]
本发明的有益效果:本发明提供一种OLED显示面板,包括阵列排布的多个子像素,每一个子像素均包括衬底基板、设于所述衬底基板上的TFT层、设于所述TFT层上的平坦层、设于所述平坦层上的第一电极、设于所述第一电极及平坦层上的像素定义层、设于所述第一电极上的发光层、设于所述发光层及像素定义层上的透明的第二电极及设于所述第二电极上的封装层;所述平坦层和像素定义层中至少一层的一部分采用黑色遮光材料形成,通过设置所述平坦层和像素定义层中至少一层的一部分采用黑色遮光材料形成,能够在不降低出光效率的前提下,避免OLED显示面板反射环境光,提升OLED显示面板的观看体验。

附图说明

[0018]
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
[0019]
附图中,
[0020]
图1为现有的OLED显示面板的结构图;
[0021]
图2为本发明的OLED显示面板的第一至第三实施例的示意图;
[0022]
图3为本发明的OLED显示面板的第一实施例中子像素的结构图;
[0023]
图4为本发明的OLED显示面板的第二实施例中子像素的结构图;
[0024]
图5为本发明的OLED显示面板的第三实施例中子像素的结构图;
[0025]
图6为本发明的OLED显示面板的第四至第八实施例的示意图;
[0026]
图7为本发明的OLED显示面板的第四实施例中子像素的结构图;
[0027]
图8为本发明的OLED显示面板的第五实施例中子像素的结构图;
[0028]
图9为本发明的OLED显示面板的第六实施例中子像素的结构图;
[0029]
图10为本发明的OLED显示面板的第七实施例中子像素的结构图;
[0030]
图11为本发明的OLED显示面板的第八实施例中子像素的结构图;
[0031]
图12为本发明的OLED显示面板的第九实施例中子像素的结构图。

本发明的实施方式

[0032]
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
[0033]
请参阅图 2 至图 12 ,本发明提供一种 OLED 显示面板,包括阵列排布的多个子像素 10 ,每一个子像素 10 均包括衬底基板 1 、设于所述衬底基板 1 上的 TFT 2 、设于所述 TFT 2 上的平坦层 3 、设于所述平坦层 3 上的第一电极 4 、设于所述第一电极 4 及平坦层 3 上的像素定义层 5 、设于所述第一电极 4 上的发光层 6 、设于所述发光层 6 及像素定义层 5 上的透明的第二电极 7 及设于所述第二电极 7 上的封装层 8
[0034]
所述平坦层 3 和像素定义层 5 中至少一层的一部分采用黑色遮光材料形成。
[0035]
具体地,所述 TFT 2 形成有 OLED 显示面板的像素驱动电路,可以包括驱动 TFT 、开关 TFT 及存储电容等结构,如图 3 至图 5 及图 6 12 所示,在本发明的一些实施例中,所述 TFT 2 具体包括:设于所述衬底基板 1 上的缓冲层 21 、设于所述缓冲层 21 上的半导体层 22 、设于所述缓冲层 21 和半导体层 22 上的栅极绝缘层 23 、设于所述栅极绝缘层 23 上的栅极 24 、设于所述栅极 24 及栅极绝缘层 23 上的层间绝缘层 25 、设于所述层间绝缘层 25 上的源极 261 和漏极 262
[0036]
进一步地,在图 3 至图 5 及图 6 至图 12 所示中仅示出了所述像素驱动电路中的一个 TFT ,但这并非对本发明的限制,实际上本发明的 OLED 显示面板中 TFT 2 中可形成多个 TFT 及存储电容, 用于驱动 OLED 发光及对 OLED 进行亮度补偿。
[0037]
进一步地,所述源极 261 和漏极 262 分别通过两贯穿栅极绝缘层 23 和层间绝缘层 25 的过孔与所述半导体层 22 的两端接触,所述第一电极 4 通过一贯穿所述平坦层 3 的过孔与所述漏极 262 接触。
[0038]
进一步地,所述像素定义层 5 相间对应所述第一电极 4 的位置形成有像素定义槽 51 ,所述像素定义槽 51 暴露出所述第一电极 4 的一部分,所述发光层 6 形成于所述像素定义槽 51 内。
[0039]
具体地,如图 2 和图 3 所示,在本发明的第一实施例中,所述 OLED 显示面板为顶发光型 OLED 显示面板,所述第一电极 4 为反射电极,该 OLED 显示面板中每一个子像素 10 中,所述像素定义层 5 采用黑色遮光材料形成,平坦层 3 采用透明材料形成。
[0040]
具体地,如图 2 及图 4 所示,在本发明的第二实施例中,所述 OLED 显示面板为顶发光型 OLED 显示面板,所述第一电极 4 为反射电极,该 OLED 显示面板中每一个子像素 10 中,所述平坦层 3 采用黑色遮光材料形成,所述像素定义层 5 采用透明材料形成。
[0041]
具体地,如图 2 及图 5 所示,在本发明的第三实施例中,所述 OLED 显示面板为顶发光型 OLED 显示面板,所述第一电极 4 为反射电极,该 OLED 显示面板中每一个子像素 10 中,所述平坦层 3 和像素定义层 5 采用黑色遮光材料形成。
[0042]
进一步地,在本发明的第一至第三实施例中,本发明通过设置顶发光型 OLED 显示面板的平坦层 3 和像素定义层 5 中的至少一层采用黑色遮光材料形成,从而使得平坦层 3 和像素定义层 5 中的至少一层能够遮挡 / 吸收环境光,防止环境光透过平坦层 3 和像素定义层 5 照射到 TFT 2 中,被 TFT 2 中的金属反射到用户眼中,影响用户观看。
[0043]
具体地,如图 6 至图 12 所示,在本发明的第四至第九实施例中,所述 OLED 显示面板为透明 OLED 显示面板,所述第一电极 4 为反射电极、透明电极或部分透明电极,每一个子像素 10 均具有依次排列的透明区 20 及非透明区 30 ,所述第一电极 4 及发光层 6 位于所述非透明区 30 中,此外,所述 TFT 2 中包括半导体层 22 、栅极 24 、源极 261 和漏极 262 在内的非透明结构也位于非透明区 30 中,而所述 TFT 2 中包括栅极绝缘层 23 和层间绝缘层 25 在内的透明结构同时覆盖所述透明区 20 和非透明区 30
[0044]
进一步地,所述非透明区 30 包括显示区 302 及非显示区 301 ,所述显示区 302 对应与所述发光层 6 设置,所述 OLED 显示面板的光线均从所述显示区 302 中发出,所述非透明区 30 中除显示区 302 以外的部分为非显示区 301 ,所述 TFT 2 中的半导体层 22 、栅极 24 、源极 261 和漏极 262 等结构均位于非显示区 301 中。
[0045]
具体地,如图 7 所示,在本发明的第四实施例中,所述平坦层 3 和像素定义层 5 同时覆盖所述透明区 20 及非透明区 30 ,所述平坦层 3 及位于透明区 20 中的像素定义层 5 采用透明材料形成,位于非透明区 30 中的像素定义层 5 采用黑色遮光材料形成。
[0046]
具体地,如图 8 所示,在本发明的第五实施例中,所述平坦层 3 和像素定义层 5 同时覆盖所述透明区 20 及非透明区 30 ,所述像素定义层 5 及位于透明区 20 中的平坦层 3 采用透明材料形成,位于非透明区 30 中的平坦层 3 采用黑色遮光材料形成。
[0047]
具体地,如图 9 所示,在本发明的第六实施例中,所述平坦层 3 和像素定义层 5 同时覆盖所述透明区 20 及非透明区 30 ,位于透明区 20 中的平坦层 3 及位于透明区 20 中的像素定义层 5 均采用透明材料形成,位于非透明区 30 中的像素定义层 5 和位于子像素 10 中的平坦层 3 均采用黑色遮光材料形成。
[0048]
具体地,如图 10 所示,在本发明的第七实施例中,所述像素定义层 5 仅覆盖所述非透明区 30 ,所述平坦层 3 同时覆盖所述非透明区 30 和透明区 20 ,所述像素定义层 5 采用黑色遮光材料形成,所述平坦层 3 采用透明材料形成。
[0049]
具体地,如图 11 所示,在本发明的第八实施例中,所述平坦层 3 仅覆盖所述非透明区 30 ,所述像素定义层 5 同时覆盖所述非透明区 30 和透明区 20 ,所述平坦层 3 采用黑色遮光材料形成,所述像素定义层 5 采用透明材料形成。
[0050]
具体地,如图 12 所示,在本发明的第九实施例中,所述平坦层 3 和像素定义层 5 均仅覆盖所述非透明区 30 ,所述平坦层 3 及像素定义层 5 均采用黑色遮光材料形成。
[0051]
从而,在本发明的第四至第九实施例中,本发明通过设置透明 OLED 显示面板的非透明区 30 中的平坦层 3 和像素定义层 5 中的至少一层采用黑色遮光材料形成,从而使得平坦层 3 和像素定义层 5 中的至少一层能够遮挡 / 吸收环境光,防止环境光透过平坦层 3 和像素定义层 5 照射到 TFT 2 中,被 TFT 2 中的金属反射到用户眼中,影响用户观看,同时设置透明区 30 中的平坦层 3 和像素定义层 5 为透明的,或直接不设置平坦层 3 和像素定义层 5 ,使得透明区 20 能够保持透明,避免因平坦层 3 和像素定义层 5 影响透明 OLED 显示面板的透明性。
[0052]
优选地,所述黑色遮光材料为黑色树脂,所述透明材料为透明树脂。
[0053]
进一步地,当所述平坦层 3 同时覆盖所述透明区 20 及非透明区 30 ,且所述透明区 20 中的平坦层 3 为透明材料,非透明区 30 中的平坦层 3 为黑色遮光材料时,可通过如下步骤形成所述平坦层 3 ,先采用黑色遮光材料通过一道图案化制程在非透明区 30 形成黑色遮光的平坦层 3 ,然后在通过涂布或喷墨等方法在透明区 20 中利用透明材料形成透明的平坦层 3 ,并且保持非透明区 30 和透明区 20 中的平坦层 3 的厚度一致或在预设的误差范围内,当然所述非透明区 30 和透明区 20 中的平坦层 3 的制作顺序可以变化,也可以先通过一道图案化制程形成透明区 20 中的平坦层 3 ,再通过涂布或喷墨等方法形成非透明区 30 中的平坦层 3 ,这都不会影响本发明的实现。
[0054]
进一步地,当所述像素定义层 5 同时覆盖所述透明区 20 及非透明区 30 ,且所述透明区 20 中的像素定义层 5 为透明材料,非透明区 30 中的像素定义层 5 为黑色遮光材料时,可通过如下步骤形成所述像素定义层 5 ,先采用黑色遮光材料通过一道图案化制程在非透明区 30 形成黑色遮光的像素定义层 5 ,然后在通过涂布或喷墨等方法在透明区 20 中利用透明材料形成透明的像素定义层 5 ,并且保持非透明区 30 和透明区 20 中的像素定义层 5 的厚度一致或在预设的误差范围内,当然所述非透明区 30 和透明区 20 中的像素定义层 5 的制作顺序可以变化,也可以先通过一道图案化制程形成透明区 20 中的像素定义层 5 ,再通过涂布或喷墨等方法形成非透明区 30 中的像素定义层 5 ,这都不会影响本发明的实现。
[0055]
综上所述,本发明提供一种 OLED 显示面板,包括阵列排布的多个子像素,每一个子像素均包括衬底基板、设于所述衬底基板上的 TFT 层、设于所述 TFT 层上的平坦层、设于所述平坦层上的第一电极、设于所述第一电极及平坦层上的像素定义层、设于所述第一电极上的发光层、设于所述发光层及像素定义层上的透明的第二电极及设于所述第二电极上的封装层;所述平坦层和像素定义层中至少一层的一部分采用黑色遮光材料形成,通过设置所述平坦层和像素定义层中至少一层的一部分采用黑色遮光材料形成,能够在不降低出光效率的前提下,避免 OLED 显示面板反射环境光,提升 OLED 显示面板的观看体验。
[0056]
以上所述,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形,而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

权利要求书

[权利要求 1]
一种OLED显示面板,包括阵列排布的多个子像素,每一个子像素均包括衬底基板、设于所述衬底基板上的TFT层、设于所述TFT层上的平坦层、设于所述平坦层上的第一电极、设于所述第一电极及平坦层上的像素定义层、设于所述第一电极上的发光层、设于所述发光层及像素定义层上的透明的第二电极及设于所述第二电极上的封装层; 所述平坦层和像素定义层中至少一层的一部分采用黑色遮光材料形成。
[权利要求 2]
如权利要求1所述的OLED显示面板,其中,所述平坦层和像素定义层中的一层采用黑色遮光材料形成,另一层采用透明材料形成。
[权利要求 3]
如权利要求1所述的OLED显示面板,其中,所述平坦层及像素定义层均采用黑色遮光材料形成。
[权利要求 4]
如权利要求1所述的OLED显示面板,其中,每一个子像素均具有依次排列的透明区及非透明区,所述第一电极及发光层位于所述非透明区中。
[权利要求 5]
如权利要求4所述的OLED显示面板,其中,所述平坦层和像素定义层同时覆盖所述透明区及非透明区,所述像素定义层及位于透明区中的平坦层采用透明材料形成,位于非透明区中的平坦层采用黑色遮光材料形成。
[权利要求 6]
如权利要求4所述的OLED显示面板,其中,所述平坦层和像素定义层同时覆盖所述透明区及非透明区,所述平坦层及位于透明区中的像素定义层采用透明材料形成,位于非透明区中的像素定义层采用黑色遮光材料形成。
[权利要求 7]
如权利要求4所述的OLED显示面板,其中,所述平坦层和像素定义层同时覆盖所述透明区及非透明区,位于透明区中的平坦层及位于透明区中的像素定义层均采用透明材料形成,位于非透明区中的像素定义层和位于非透明区中的平坦层均采用黑色遮光材料形成。
[权利要求 8]
如权利要求4所述的OLED显示面板,其中,所述平坦层和像素定义层均仅覆盖所述非透明区,所述平坦层及像素定义层均采用黑色遮光材料形成。
[权利要求 9]
如权利要求4所述的OLED显示面板,其中,所述平坦层仅覆盖所述非透明区,所述像素定义层同时覆盖所述非透明区和透明区,所述平坦层采用黑色遮光材料形成,所述像素定义层采用透明材料形成。
[权利要求 10]
如权利要求4所述的OLED显示面板,其中,所述像素定义层仅覆盖所述非透明区,所述平坦层同时覆盖所述非透明区和透明区,所述像素定义层采用黑色遮光材料形成,所述平坦层采用透明材料形成。

附图