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1. WO2020096781 - SYSTÈMES ET PROCÉDÉS QUI UTILISENT UNE PHOTOLITHOGRAPHIE INCLINÉE DESTINÉS À FABRIQUER DES ÉLÉMENTS DE GUIDAGE DE LUMIÈRE

Numéro de publication WO/2020/096781
Date de publication 14.05.2020
N° de la demande internationale PCT/US2019/057858
Date du dépôt international 24.10.2019
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
H01L 21/027 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
Déposants
  • WAYMO LLC [US]/[US]
Inventeurs
  • DUNPHY, James
  • HUTCHISON, David
Mandataires
  • GIN, Aaron, V.
Données relatives à la priorité
16/183,72807.11.2018US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SYSTEMS AND METHODS THAT UTILIZE ANGLED PHOTOLITHOGRAPHY FOR MANUFACTURING LIGHT GUIDE ELEMENTS
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS QUI UTILISENT UNE PHOTOLITHOGRAPHIE INCLINÉE DESTINÉS À FABRIQUER DES ÉLÉMENTS DE GUIDAGE DE LUMIÈRE
Abrégé
(EN)
Systems and methods described herein relate to the manufacture of optical elements and optical systems. An example system may include an optical component configured to direct light from a light source to illuminate a photoresist material at a desired angle and to expose at least a portion of an angled structure in the photoresist material, where the photoresist material overlays at least a portion of a top surface of a substrate. The optical component includes a container containing an light-coupling material that is selected based in part on the desired angle. The optical component also includes a mirror arranged to reflect at least a portion of the light to illuminate the photoresist material at the desired angle.
(FR)
L'invention concerne des systèmes et des procédés se rapportant à la fabrication d'éléments optiques et de systèmes optiques. Un système donné à titre d'exemple peut comprendre un composant optique conçu pour diriger la lumière provenant d'une source de lumière pour éclairer un matériau de résine photosensible à un angle souhaité et pour exposer au moins une partie d'une structure inclinée dans le matériau de résine photosensible, le matériau de résine photosensible recouvrant au moins une partie d'une surface supérieure d'un substrat. Le composant optique comprend un récipient contenant un matériau de couplage de lumière qui est sélectionné sur la base en partie de l'angle souhaité. Le composant optique comprend également un miroir agencé pour réfléchir au moins une partie de la lumière de sorte à éclairer le matériau de résine photosensible à l'angle souhaité.
Également publié en tant que
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