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1. WO2020096723 - SYSTÈME DE FILTRE RADIOFRÉQUENCE POUR UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT

Numéro de publication WO/2020/096723
Date de publication 14.05.2020
N° de la demande internationale PCT/US2019/055314
Date du dépôt international 09.10.2019
CIB
H03H 7/01 2006.01
HÉLECTRICITÉ
03CIRCUITS ÉLECTRONIQUES FONDAMENTAUX
HRÉSEAUX D'IMPÉDANCES, p.ex. CIRCUITS RÉSONNANTS; RÉSONATEURS
7Réseaux à plusieurs accès comportant comme composants uniquement des éléments électriques passifs
01Réseaux à deux accès sélecteurs de fréquence
H03H 1/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
03CIRCUITS ÉLECTRONIQUES FONDAMENTAUX
HRÉSEAUX D'IMPÉDANCES, p.ex. CIRCUITS RÉSONNANTS; RÉSONATEURS
1Détails de réalisation des réseaux d'impédances dont le mode de fonctionnement électrique n'est pas spécifié ou est applicable à plus d'un type de réseau
H01J 37/32 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
CPC
H01J 37/32174
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
H01J 37/32724
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32715Workpiece holder
32724Temperature
H01L 21/67069
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67017Apparatus for fluid treatment
67063for etching
67069for drying etching
H01L 21/6833
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
6831using electrostatic chucks
6833Details of electrostatic chucks
H03H 7/0115
HELECTRICITY
03BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
7Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
01Frequency selective two-port networks
0115comprising only inductors and capacitors
Déposants
  • APPLIED MATERIALS, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • NGUYEN, Andrew
  • CHAFIN, Michael G.
  • LIU, Lu
  • RAYAROTH, Anilkumar
Mandataires
  • PATTERSON, B. Todd
  • TABOADA, Keith
Données relatives à la priorité
62/758,36209.11.2018US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) RADIO FREQUENCY FILTER SYSTEM FOR A PROCESSING CHAMBER
(FR) SYSTÈME DE FILTRE RADIOFRÉQUENCE POUR UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT
Abrégé
(EN)
A radio frequency (RF) filter system for a substrate processing chamber comprises a first RF filter coupled to a first element of the processing chamber and a second RF filter coupled to the first element of the processing chamber. Each of the RF filters comprises a first filter stage configured to reject a first frequency, a second filter stage coupled to the first filter stage and configured to reject a second frequency, and a third filter stage coupled to the second filter stage and configured to reject the first frequency. Further, the first filter stage comprises a first inductor and a first capacitance, the second filter stage comprises a second inductor and a second capacitance, the third filter stage comprises a third inductor and a third capacitance.
(FR)
La présente invention concerne un système de filtre radiofréquence (RF) pour une chambre de traitement de substrat comprenant un premier filtre RF couplé à un premier élément de la chambre de traitement et un second filtre RF couplé au premier élément de la chambre de traitement. Chacun des filtres RF comprend un premier étage de filtre conçu pour rejeter une première fréquence, un deuxième étage de filtre couplé au premier étage de filtre et conçu pour rejeter une deuxième fréquence, et un troisième étage de filtre couplé au deuxième étage de filtre et conçu pour rejeter la première fréquence. En outre, le premier étage de filtre comprend une première bobine d'induction et une première capacité, le deuxième étage de filtre comprend une deuxième bobine d'induction et un deuxième condensateur, le troisième étage de filtre comprend une troisième bobine d'induction et un troisième condensateur.
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