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1. WO2020091198 - PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE MICROÉLECTRODES IMPRIMÉES NON GRAVÉES

Numéro de publication WO/2020/091198
Date de publication 07.05.2020
N° de la demande internationale PCT/KR2019/009768
Date du dépôt international 06.08.2019
CIB
H01B 13/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
BCÂBLES; CONDUCTEURS; ISOLATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS CONDUCTRICES, ISOLANTES OU DIÉLECTRIQUES
13Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de conducteurs ou câbles
B41M 3/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
MPROCÉDÉS D'IMPRESSION, DE REPRODUCTION, DE MARQUAGE OU DE COPIE; IMPRESSION EN COULEUR
3Procédés d'impression pour des travaux imprimés d'un genre particulier, p.ex. motifs
H05K 1/09 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
KCIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
1Circuits imprimés
02Détails
09Emploi de matériaux pour réaliser le parcours métallique
Déposants
  • 주식회사 라훔나노테크 RAHUM NANO TECH, INC [KR]/[KR]
Inventeurs
  • 김세현 KIM, Se Hyun
  • 이신림 LI, Xin Lin
Mandataires
  • 특허법인 다나 DANA PATENT LAW FIRM
Données relatives à la priorité
10-2018-013282901.11.2018KR
Langue de publication coréen (KO)
Langue de dépôt coréen (KO)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR FORMING PATTERN OF NON-ETCHING PRINTED MICROELECTRODES
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE MICROÉLECTRODES IMPRIMÉES NON GRAVÉES
(KO) 무에칭-인쇄형 마이크로 전극의 패턴을 형성하는 방법
Abrégé
(EN)
The present application relates to a method for forming a pattern of microelectrodes and, more particularly, to a method for forming a pattern of microelectrodes, the method being capable of forming a fine line width for various electronic devices, such as a flexible touch screen panel, an organic light-emitting diode, a transistor, a sensor, and an electrochromic device, without using photolithography and etching processes.
(FR)
La présente invention concerne un procédé de formation d'un motif de microélectrodes et, plus particulièrement, un procédé de formation d'un motif de microélectrodes permettant de former une largeur de ligne fine pour divers dispositifs électroniques, tel qu'un panneau d'écran tactile flexible, une diode électroluminescente organique, un transistor, un capteur et un dispositif électrochromique, sans utiliser de processus de photolithographie et de processus de gravure.
(KO)
본 출원은 마이크로 전극의 패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 포토 리쏘그래피 및 에칭 공정을 사용하지 않으며, 플렉시블 터치스크린 패널 및 유기발광다이오드, 트랜지스터, 센서 및 변색 소자와 같은 다양한 전자 소자를 위한 미세 선폭의 형성이 가능한 마이크로 전극의 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다.
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