Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Goto Application

1. WO2020090426 - TUBE CÉRAMIQUE

Numéro de publication WO/2020/090426
Date de publication 07.05.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2019/040333
Date du dépôt international 11.10.2019
CIB
C04B 35/505 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
04CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
BCHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
35Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
50à base de composés de terres rares
505à base d'oxyde d'yttrium
B28B 1/24 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
28TRAVAIL DU CIMENT, DE L'ARGILE OU DE LA PIERRE
BFAÇONNAGE DE L'ARGILE OU D'AUTRES COMPOSITIONS CÉRAMIQUES, SCORIES OU MÉLANGES CONTENANT DES SUBSTANCES ANALOGUES AU CIMENT, p.ex. DU PLÂTRE
1Fabrication d'objets façonnés à partir du matériau
24par moulage par injection
C04B 35/626 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
04CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
BCHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
35Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
622Procédés de mise en forme; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
626Préparation ou traitement des poudres individuellement ou par fournées
H01L 21/3065 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du groupe IV de la classification périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
306Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique
3065Gravure par plasma; Gravure au moyen d'ions réactifs
Déposants
  • 京セラ株式会社 KYOCERA CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 田中 万平 TANAKA, Manpei
Mandataires
  • 特許業務法人ブナ国際特許事務所 BUNA PATENT ATTORNEYS
Données relatives à la priorité
2018-20287729.10.2018JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) CERAMIC TUBE
(FR) TUBE CÉRAMIQUE
(JA) セラミックチューブ
Abrégé
(EN)
A ceramic tube containing yttrium oxide as a main component, wherein the cut level difference (Rδc) in a roughness curve of an inner peripheral surface, which represents the difference between the cut level at a load length ratio of 25% in the roughness curve and the cut level at a load length ratio of 75% in the roughness curve, is 2 μm or less and the variation coefficient of the cut level difference (Rδc) is 0.05 to 0.6.
(FR)
L'invention concerne un tube céramique contenant de l'oxyde d'yttrium en tant que composant principal, la différence de niveau de coupe (Rδc) dans une courbe de rugosité d'une surface périphérique interne, qui représente la différence entre le niveau de coupe à un rapport de longueur de charge de 25 % dans la courbe de rugosité et le niveau de coupe à un rapport de longueur de charge de 75 % dans la courbe de rugosité, est inférieure ou égale à 2 µm et le coefficient de variation de la différence de niveau de coupe (Rδc) est de 0,05 à 0,6.
(JA)
酸化イットリウムを主成分とするセラミックチューブであって、内周面の粗さ曲線における25%の負荷長さ率での切断レベルと、粗さ曲線における75%の負荷長さ率での切断レベルとの差を表す、粗さ曲線における切断レベル差(Rδc)が2μm以下であって、切断レベル差(Rδc)の変動係数が0.05~0.6である。
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international