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1. WO2020088835 - PROCÉDÉ DE COMMANDE DE RÉGLAGE DE PROFIL DE DOSE D'UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE

Numéro de publication WO/2020/088835
Date de publication 07.05.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2019/075031
Date du dépôt international 18.09.2019
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
H05G 2/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
GTECHNIQUE DES RAYONS X
2Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
CPC
G03F 7/70033
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70008Production of exposure light, i.e. light sources
70033by plasma EUV sources
G03F 7/70083
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70083Non-homogeneous intensity distribution in the mask plane
G03F 7/70133
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70133Measurement of illumination distribution, in pupil plane or field plane
G03F 7/70558
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
7055Exposure light control, in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control, light interruption
70558Dose control, i.e. achievement of a desired dose
H05G 2/008
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
008involving a beam of energy, e.g. laser or electron beam in the process of exciting the plasma
Déposants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventeurs
  • O’GORMAN, Colm
Mandataires
  • PETERS, John Antoine
Données relatives à la priorité
18203977.601.11.2018EP
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) A METHOD FOR CONTROLLING THE DOSE PROFILE ADJUSTMENT OF A LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE COMMANDE DE RÉGLAGE DE PROFIL DE DOSE D'UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé
(EN)
Disclosed is a method for controlling a dose or intensity profile of a lithographic apparatus along a direction perpendicular to a direction of scanning across a patterning device having higher dose areas and lower dose areas, the method comprising: determining a desired variation of a parameter during the scanning across the patterning device, wherein the parameter is associated with an intensity distribution of radiation provided by a source apparatus to an optical input of the lithographic apparatus, and wherein the determining of the desired variation is at least based on: a relation between the intensity distribution of the radiation at the optical input of the lithographic apparatus and the dose or intensity profile; and the placement of the higher dose areas and lower dose areas along a direction of scanning.
(FR)
L'invention concerne un procédé permettant de commander un profil de dose ou d'intensité d'un appareil lithographique dans une direction perpendiculaire à une direction de balayage sur l'ensemble d'un dispositif de formation de motifs comportant des zones à dose plus élevée et des zones à dose plus faible, le procédé consistant : à déterminer une variation souhaitée d'un paramètre pendant le balayage sur l'ensemble du dispositif de formation de motifs, le paramètre étant associé à une distribution d'intensité de rayonnement fourni par un appareil source à une entrée optique de l'appareil lithographique, et la détermination de la variation souhaitée étant au moins basée sur une relation entre la distribution d'intensité du rayonnement à l'entrée optique de l'appareil lithographique ainsi que sur le profil de dose ou d'intensité ; et à placer les zones à dose plus élevée et les zones à dose plus faible le long d'une direction de balayage.
Également publié en tant que
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