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1. WO2020072269 - COMPOSÉ D'ORGANOSILICIUM, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET SON UTILISATION

Numéro de publication WO/2020/072269
Date de publication 09.04.2020
N° de la demande internationale PCT/US2019/053146
Date du dépôt international 26.09.2019
CIB
C07F 9/32 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
FCOMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
9Composés contenant des éléments des groupes 5 ou 15 de la classification périodique
02Composés du phosphore
28à une ou plusieurs liaisons P-C
30Acides phosphiniques ; Acides thiophosphiniques
32Leurs esters
C07F 7/08 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
FCOMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
7Composés contenant des éléments des groupes 4 ou 14 de la classification périodique
02Composés du silicium
08Composés comportant une ou plusieurs liaisons C-Si
CPC
C07F 7/08
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
7Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
02Silicon compounds
08Compounds having one or more C—Si linkages
C07F 9/32
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
9Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
02Phosphorus compounds
28with one or more P—C bonds
30Phosphinic acids R2P(=O)(OH); Thiophosphinic acids ; , i.e. R2P(=X)(XH) (X = S, Se)
32Esters thereof
Déposants
  • DOW TORAY CO., LTD. [JP]/[JP]
  • DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC [US]/[US]
Inventeurs
  • JANG, Eun Sil
  • OGAWA, Takuya
  • OKAWA, Tadashi
Mandataires
  • ISTVAN-MITCHELL, Wyatt J.
  • BALLOR, Nicholas R.
  • BECKER, Rebecca A.
  • BONDARENKO, Gregory P.
  • BURPEE, Charles E.
  • CIARAVINO, Vito A.
  • COLLINS, Catherine S.
  • DANI, William P.
  • DEVRIES, Nathan J.
  • GOSKA, Matthew L.
  • HALL, Erin
  • HARRIER, Ian M.
  • KLEINHEKSEL, Chad E.
  • PECK, Randall J.
  • SHUNTA, Dustin H.
Données relatives à la priorité
62/739,47301.10.2018US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) ORGANOSILICON COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THEREOF, AND USE THEREOF
(FR) COMPOSÉ D'ORGANOSILICIUM, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET SON UTILISATION
Abrégé
(EN)
A novel organosilicon compound having not more than 200 silicon atoms per molecule is provided. The organosilicon compound is represented by the following average compositional formula (I): YaR1bSiO(4-a-b)/2 wherein R1 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, aryl group having 6 to 20 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a hydroxyl group; Y is a specific acylphosphinate residue; and "a" and "b" are numbers satisfying the following conditions: 0 < a ≤ 2, 0 < b ≤ 3, and a ≤ b. The organosilicon compound is compatible with organopolysiloxanes and is useful as a photo-initiator for various types of photo-curable compositions.
(FR)
L'invention concerne un nouveau composé d'organosilicium dont le nombre d'atomes de silicium par molécule étant inférieur ou égal à 200. Le composé d'organosilicium est représenté par la formule de composition moyenne suivante (I) : YaR1bSiO(4-a-b)/2, dans laquelle R1 est un groupe alkyle ayant de 1 à 12 atomes de carbone, un groupe alcényle ayant de 2 à 12 atomes de carbone, un groupe aryle ayant de 6 à 20 atomes de carbone, un groupe alcoxy ayant de 1 à 6 atomes de carbone, ou un groupe hydroxyle ; Y est un résidu d'acylphosphinate spécifique ; et "a" et "b" sont des nombres satisfaisant les conditions suivantes : 0 < a ≤ 2, 0 < b ≤ 3 et a ≤ b. Le composé d'organosilicium est compatible avec des organopolysiloxanes et est utile en tant que photo-initiateur pour divers types de compositions photodurcissables.
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