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1. WO2020069792 - SYSTÈME DE MÉTROLOGIE ET PROCÉDÉ POUR MESURER UN FAISCEAU LASER D'EXCITATION DANS UNE SOURCE DE PLASMA ULTRAVIOLET EXTRÊME

Numéro de publication WO/2020/069792
Date de publication 09.04.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2019/071801
Date du dépôt international 14.08.2019
CIB
G01J 9/02 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
JMESURE DE L'INTENSITÉ, DE LA VITESSE, DU SPECTRE, DE LA POLARISATION, DE LA PHASE OU DES CARACTÉRISTIQUES D'IMPULSIONS DE LUMIÈRE INFRAROUGE, VISIBLE OU ULTRAVIOLETTE; COLORIMÉTRIE; PYROMÉTRIE DES RADIATIONS
9Mesure du déphasage des rayons lumineux; Recherche du degré de cohérence; Mesure de la longueur d'onde des rayons lumineux
02par des méthodes interférométriques
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
H05G 2/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
GTECHNIQUE DES RAYONS X
2Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
CPC
G01J 2009/0219
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED, VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
9Measuring optical phase difference
02by interferometric methods
0215by shearing interferometric methods
0219using two or more gratings
G01J 2009/0234
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED, VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
9Measuring optical phase difference
02by interferometric methods
0234Measurement of the fringe pattern
G01J 9/0215
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED, VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
9Measuring optical phase difference
02by interferometric methods
0215by shearing interferometric methods
G03F 7/7055
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
7055Exposure light control, in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control, light interruption
H05G 2/008
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
008involving a beam of energy, e.g. laser or electron beam in the process of exciting the plasma
Déposants
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE] (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, JP, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
  • MANGER, Matthias [DE]/[DE] (US)
  • BAUMER, Florian [DE]/[DE] (US)
Inventeurs
  • MANGER, Matthias
  • BAUMER, Florian
Mandataires
  • FRANK, Hartmut
Données relatives à la priorité
10 2018 124 396.002.10.2018DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) METROLOGIESYSTEM UND VERFAHREN ZUR VERMESSUNG EINES ANREGUNGS-LASERSTRAHLS IN EINER EUV-PLASMAQUELLE
(EN) METROLOGY SYSTEM AND METHOD FOR MEASURING AN EXCITATION LASER BEAM IN AN EUV PLASMA SOURCE
(FR) SYSTÈME DE MÉTROLOGIE ET PROCÉDÉ POUR MESURER UN FAISCEAU LASER D'EXCITATION DANS UNE SOURCE DE PLASMA ULTRAVIOLET EXTRÊME
Abrégé
(DE)
Die Erfindung betrifft ein Metrologiesystem und ein Verfahren zur Vermessung eines Anregungs-Laserstrahls in einer EUV-Plasmaquelle, wobei der Anregungs-Laserstrahl in der EUV-Plasmaquelle von einem Anregungs-Laser über eine Strahlsteuereinheit und eine Fokussieroptik auf ein in einer Plasmazündungsposition befindliches Targetmaterial geführt wird. Ein erfindungsgemäßes Metrologiesystem weist ein erstes Strahlanalysesystem (8) zur Analyse wenigstens eines aus dem Anregungs-Laserstrahl vor Reflexion an dem Targetmaterial ausgekoppelten ersten Messstrahls und ein zweites Strahlanalysesystem (9) zur Analyse wenigstens eines aus dem Anregungs-Laserstrahl nach Reflexion an dem Targetmaterial ausgekoppelten zweiten Messstrahls auf, wobei sowohl das erste Strahlanalysesystem (8) als auch das zweite Strahlanalysesystem (9) jeweils wenigstens eine Wellenfrontsensorik aufweisen.
(EN)
The invention relates to a metrology system and to a method for measuring an excitation laser beam in an EUV plasma source, wherein the excitation laser beam in the EUV plasma source is guided from an excitation laser via a beam control unit and a focussing optical system to a target material situated in a plasma ignition position. A metrology system according to the invention has a first beam analysis system (8) for analysing at least one first measurement beam decoupled from the excitation laser beam before reflection at the target material and a second beam analysis system (9) for analysing at least one second measurement beam decoupled from the excitation laser beam after reflection at the target material, wherein both the first beam analysis system (8) and the second beam analysis system (9) each have at least one wavefront sensor system.
(FR)
L'invention concerne un système de métrologie et un procédé pour mesurer un faisceau lumineux d'excitation dans une source de plasma ultraviolet extrême, le faisceau laser d'excitation dans la source de plasma ultraviolet extrême d'un laser d'excitation étant guidé par l'intermédiaire d'une unité de commande de faisceau et d'une optique de focalisation sur un matériau cible se trouvant dans une position d'amorçage de plasma. Un système de métrologie selon l'invention présente un premier système d'analyse de faisceau (8) pour l'analyse d'au moins un premier faisceau de mesure extrait du faisceau laser d'excitation avant réflexion sur le matériau cible et un deuxième système d'analyse de faisceau (9) pour l'analyse d'au moins un deuxième faisceau de mesure extrait du faisceau laser d'excitation après réflexion sur le matériau cible, aussi bien le premier système d'analyse de faisceau (8) que le deuxième système d'analyse de faisceau (9) présentant respectivement au moins un système de détection de front d'onde.
Également publié en tant que
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