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1. WO2020067365 - PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE SOLUTION D'HYDROXYDE D'AMMONIUM QUATERNAIRE DANS UN SOLVANT ORGANIQUE

Numéro de publication WO/2020/067365
Date de publication 02.04.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2019/038008
Date du dépôt international 26.09.2019
CIB
C07C 209/84 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
CCOMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
209Préparation de composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné
82Purification; Séparation; Stabilisation; Emploi d'additifs
84Purification
B01D 3/10 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
DSÉPARATION
3Distillation ou procédés d'échange apparentés dans lesquels des liquides sont en contact avec des milieux gazeux, p.ex. extraction
10Distillation sous vide
C07C 209/86 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
CCOMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
209Préparation de composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné
82Purification; Séparation; Stabilisation; Emploi d'additifs
86Séparation
C07C 211/63 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
CCOMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
211Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné
62Composés d'ammonium quaternaire
63ayant des atomes d'azote quaternisés liés à des atomes de carbone acycliques
G03F 7/32 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
30Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
32Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs
G03F 7/42 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
42Elimination des réserves ou agents à cet effet
CPC
B01D 3/10
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
3Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
10Vacuum distillation
C07C 209/84
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
209Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
82Purification; Separation; Stabilisation; Use of additives
84Purification
C07C 209/86
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
209Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
82Purification; Separation; Stabilisation; Use of additives
86Separation
C07C 211/63
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
211Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
62Quaternary ammonium compounds
63having quaternised nitrogen atoms bound to acyclic carbon atoms
G03F 7/32
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
30Imagewise removal using liquid means
32Liquid compositions therefor, e.g. developers
G03F 7/42
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
42Stripping or agents therefor
Déposants
  • 株式会社トクヤマ TOKUYAMA CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 橘 昇二 TACHIBANA, Shoji
  • 東野 誠司 TONO, Seiji
  • 石津 澄人 ISHIZU, Sumito
  • 山下 義晶 YAMASHITA, Yoshiaki
Mandataires
  • 山本 典輝 YAMAMOTO, Noriaki
  • 山下 昭彦 YAMASHITA, Akihiko
  • 岸本 達人 KISHIMOTO, Tatsuhito
Données relatives à la priorité
2018-18327428.09.2018JP
2019-00973423.01.2019JP
2019-03585428.02.2019JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR PRODUCING ORGANIC SOLVENT SOLUTION OF QUATERNARY AMMONIUM HYDROXIDE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE SOLUTION D'HYDROXYDE D'AMMONIUM QUATERNAIRE DANS UN SOLVANT ORGANIQUE
(JA) 水酸化第4級アンモニウムの有機溶媒溶液の製造方法
Abrégé
(EN)
According to the present invention, a processing liquid composition for manufacturing a semiconductor is characterized by comprising a quaternary ammonium hydroxide, and a first organic solvent that dissolves the quaternary ammonium hydroxide, wherein: the first organic solvent is a water-soluble organic solvent that has multiple hydroxyl groups, the water content in the composition is 1.0 mass % or less with respect to the total mass of the composition; the contents of Na, Mg, Al, K, Ca, Ti, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, and Zn in the composition are each 100 mass ppb or less with respect to the total mass of the composition; and the content of Cl in the composition is 100 mass ppb or less with respect to the total mass of the composition.
(FR)
Selon la présente invention, une composition liquide de traitement pour la fabrication d'un semi-conducteur est caractérisée en ce qu'elle comprend un hydroxyde d'ammonium quaternaire, et un premier solvant organique qui dissout l'hydroxyde d'ammonium quaternaire. Le premier solvant organique est un solvant organique hydrosoluble qui comprend de multiples groupes hydroxyle, la teneur en eau dans la composition est inférieure ou égale à 1,0 % en masse par rapport à la masse totale de la composition ; les teneurs en Na, Mg, Al, K, Ca, Ti, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu et Zn dans la composition représentent chacun une proportion inférieure ou égale à 100 ppb en masse par rapport à la masse totale de la composition ; et la teneur en Cl dans la composition est inférieure ou égale à 100 ppb en masse par rapport à la masse totale de la composition.
(JA)
水酸化第4級アンモニウムと、該水酸化第4級アンモニウムを溶解する第1の有機溶媒とを含む、半導体製造用処理液組成物であって、第1の有機溶媒はヒドロキシ基を複数個有する水溶性有機溶媒であり、組成物中の水分含有量が、組成物全量基準で1.0質量%以下であり、組成物中のNa、Mg、Al、K、Ca、Ti、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、及びZnの含有量が、組成物全量基準でそれぞれ100質量ppb以下であり、組成物中のClの含有量が、組成物全量基準で100質量ppb以下であることを特徴とする、半導体製造用処理液組成物。
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