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1. WO2020062886 - DISPOSITIF DE NETTOYAGE D'UNITÉ DE DÉVELOPPEMENT ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE L'UTILISANT

Numéro de publication WO/2020/062886
Date de publication 02.04.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2019/086740
Date du dépôt international 14.05.2019
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
G03F 7/42 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
42Elimination des réserves ou agents à cet effet
G03F 7/30 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
30Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
B08B 9/08 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08NETTOYAGE
BNETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
9Nettoyage d'objets creux par des procédés ou avec un appareillage spécialement adaptés à cet effet
08Nettoyage de récipients, p.ex. de réservoirs
CPC
B08B 9/08
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
9Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
08Cleaning containers, e.g. tanks
G02F 1/1303
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating, or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
G03F 7/7075
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70691Handling of masks or wafers
70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
7075Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
G03F 7/70925
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution, removing pollutants from apparatus; electromagnetic and electrostatic-charge pollution
70925Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants
Déposants
  • 武汉华星光电技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 叶红 YE, Hong
Mandataires
  • 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) ESSEN PATENT&TRADEMARK AGENCY
Données relatives à la priorité
201811128282.827.09.2018CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) DEVELOPING UNIT CLEANING DEVICE AND CLEANING METHOD USING SAME
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE D'UNITÉ DE DÉVELOPPEMENT ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE L'UTILISANT
(ZH) 显影单元清洁装置及采用该装置的清洁方法
Abrégé
(EN)
Provided is a developing unit cleaning device (110) applied in an exposure system, the developing unit cleaning device is respectively connected to the substrate coating unit (120) and the substrate developing unit (140), the developing unit cleaning device is used to transfer the photoresist solvent waste liquid generated by the substrate coating unit to the substrate developing unit, and to clean the developing tank (141) provided in the substrate developing unit. The developing unit cleaning device effectively solves the problem that the cured photoresist residue inside the developing unit is not cleaned, improves the cleanliness of the developing tank of the developing unit, so as to avoid product defects caused by the cleanliness of the developing tank of the developing unit, meanwhile, the developing unit cleaning device can use the photoresist solvent for a second time, improving the utilization rate of chemical consumables.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de nettoyage d'unité de développement (110) appliqué dans un système d'exposition, le dispositif de nettoyage d'unité de développement est respectivement connecté à l'unité de revêtement de substrat (120) et à l'unité de développement de substrat (140), le dispositif de nettoyage d'unité de développement est utilisé pour transférer le liquide résiduaire de solvant de résine photosensible généré par l'unité de revêtement de substrat à l'unité de développement de substrat, et pour nettoyer le réservoir de développement (141) disposé dans l'unité de développement de substrat. Le dispositif de nettoyage d'unité de développement résout efficacement le problème selon lequel le résidu de photorésine durcie à l'intérieur de l'unité de développement n'est pas nettoyé, améliore la propreté du réservoir de développement de l'unité de développement, de façon à éviter des défauts de produit provoqués par la propreté du réservoir de développement de l'unité de développement, et en même temps, le dispositif de nettoyage d'unité de développement peut utiliser le solvant de résine photosensible une seconde fois, en améliorant le taux d'utilisation de consommables chimiques.
(ZH)
一种应用于一曝光系统的显影单元清洁装置(110),显影单元清洁装置分别连接至基板涂布单元(120)和基板显影单元(140),显影单元清洁装置用于将基板涂布单元所产生的光阻溶剂废液传送至基板显影单元,并且对设置在基板显影单元中的显影槽(141)进行清洁。显影单元清洁装置有效地解决显影单元内部固化光阻残渣清洁不净的问题,提高了显影单元的显影槽的洁净度,从而避免因显影单元的显影槽的洁净度所引起的产品不良问题,同时这种显影单元清洁装置可以二次利用光阻溶剂,提升了化学消耗品的使用率。
Également publié en tant que
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