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1. WO2020010623 - DISPOSITIF DE TRAITEMENT ET BASE DE TRAITEMENT ASSOCIÉE

Numéro de publication WO/2020/010623
Date de publication 16.01.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2018/095660
Date du dépôt international 13.07.2018
CIB
B28D 7/04 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
28TRAVAIL DU CIMENT, DE L'ARGILE OU DE LA PIERRE
DTRAVAIL DE LA PIERRE OU DES MATÉRIAUX SEMBLABLES À LA PIERRE
7Accessoires spécialement conçus pour leur utilisation avec les machines ou les dispositifs des autres groupes de la présente sous-classe
04pour supporter ou maintenir les pièces travaillées
CPC
B28D 7/04
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
7Accessories specially adapted for use with machines or devices of the preceding groups
04for supporting or holding work ; or conveying or discharging work
Déposants
  • 深圳配天智能技术研究院有限公司 SHENZHEN A & E INTELLIGENT TECHNOLOGY INSTITUTE CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 谢建华 XIE, Jianhua
Mandataires
  • 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) CHINA WISPRO INTELLECTUAL PROPERTY LLP.
Données relatives à la priorité
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) PROCESSING DEVICE AND PROCESSING BASE THEREOF
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT ET BASE DE TRAITEMENT ASSOCIÉE
(ZH) 一种加工装置及其加工基台
Abrégé
(EN)
Disclosed in the present application are a processing device and a processing base thereof, the processing base comprising a rotation platform, a rotating assembly and a support assembly. The rotation platform is used for supporting a workpiece to be processed; the rotating assembly is rotatably connected to the rotation platform, and the rotation platform rotates around the rotating assembly as a rotation center; and the support assembly is provided at the side of the rotating assembly, and the support assembly is used for supporting the rotation platform and supporting the rotation platform to rotate at the top of the support assembly. By means of the above solution, a processing assembly is able to process any region of the surface of the workpiece to be processed, so that the problems of low processing efficiency and high processing cost caused by using a plurality of processing assemblies to process the workpiece to be processed, when the processing range of one processing assembly is insufficient, can be avoided.
(FR)
La présente invention concerne un dispositif de traitement et une base de traitement associée, la base de traitement comprenant une plate-forme de rotation, un ensemble rotatif et un ensemble de support. La plate-forme de rotation est utilisée pour soutenir une pièce à travailler ; l'ensemble rotatif est relié de façon rotative à la plate-forme de rotation, et la plateforme de rotation tourne autour de l'ensemble rotatif en tant que centre de rotation ; et l'ensemble de support est disposé sur le côté de l'ensemble rotatif, et l'ensemble de support est utilisé pour soutenir la plate-forme de rotation et soutenir la rotation de la plate-forme de rotation au sommet de l'ensemble de support. Au moyen de la solution ci-dessus, un ensemble de traitement est apte à traiter n'importe quelle région de la surface de la pièce à travailler devant être traitée, de sorte que les problèmes d'une faible efficacité de traitement et d'un coût de traitement élevé dus à l'utilisation d'une pluralité d'ensembles de traitement pour traiter la pièce à travailler devant être traitée, lorsque la plage de traitement d'un ensemble de traitement est insuffisante, peuvent être évités.
(ZH)
本申请公开了一种加工装置及其加工基台,其中,加工基台包括旋转平台、转动组件以及支撑组件。旋转平台用于支撑待加工件;转动组件与旋转平台旋转连接,旋转平台以转动组件为旋转中心旋转;支撑组件设于转动组件的侧边,支撑组件用于支撑旋转平台,并支撑旋转平台在支撑组件的顶部旋转。通过上述方案使得加工组件能够对待加工件的表面的任一区域进行加工,因此可以避免出现加工组件加工范围不够时需要采用多个加工组件对待加工件进行加工而导致的加工效率低及加工成本高的问题。
Également publié en tant que
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