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1. WO2020003946 - FILM DÉPOSÉ ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION

Numéro de publication WO/2020/003946
Date de publication 02.01.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2019/022390
Date du dépôt international 05.06.2019
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 16.01.2020
CIB
C23C 14/02 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
02Pré-traitement du matériau à revêtir
B32B 9/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32PRODUITS STRATIFIÉS
BPRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
9Produits stratifiés composés essentiellement d'une substance particulière non couverte par les groupes B32B11/-B32B29/155
CPC
B32B 9/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
9Layered products comprising a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
C23C 14/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
02Pretreatment of the material to be coated
Déposants
  • 尾池工業株式会社 OIKE & CO., LTD. [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 大西 潤 OHNISHI, Jun
  • 有村 直美 ARIMURA, Naomi
Mandataires
  • 特許業務法人朝日奈特許事務所 ASAHINA & CO.
Données relatives à la priorité
2018-11988025.06.2018JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) DEPOSITED FILM AND METHOD FOR PRODUCING DEPOSITED FILM
(FR) FILM DÉPOSÉ ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 蒸着フィルムおよび蒸着フィルムの製造方法
Abrégé
(EN)
A deposited film comprising a base material and a deposited layer provided on the base material, wherein the deposited layer contains a metal and has an average oxygen atom concentration, which is measured by X-ray photoelectron spectroscopy in the thickness direction, of 8.0 at.% or less.
(FR)
La présente invention concerne un film déposé qui comprend un matériau de base et une couche déposée disposée sur le matériau de base, la couche déposée contenant un métal et ayant une concentration moyenne en atomes d'oxygène, qui est mesurée par spectroscopie photoélectronique à rayons X dans le sens de l'épaisseur, inférieure ou égale à 8,0 % at.
(JA)
基材と、基材上に設けられた蒸着層とを備え、蒸着層は、金属を含み、厚み方向におけるX線光電子分光法によって測定される酸素原子の平均濃度が、8.0原子%以下である、蒸着フィルム。
Également publié en tant que
JP2020527340
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