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1. WO2019209527 - RÉSEAUX À PROFONDEURS VARIABLES DESTINÉS À DES AFFICHEURS À GUIDE D'ONDES

Numéro de publication WO/2019/209527
Date de publication 31.10.2019
N° de la demande internationale PCT/US2019/026658
Date du dépôt international 09.04.2019
CIB
G03F 7/00 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G02B 5/18 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
18Grilles de diffraction
G02B 27/01 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes G02B1/-G02B26/117
01Dispositifs d'affichage "tête haute"
CPC
G02B 2027/0178
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
01Head-up displays
017Head mounted
0178Eyeglass type, eyeglass details G02C
G02B 27/0172
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
01Head-up displays
017Head mounted
0172characterised by optical features
G02B 27/0176
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
01Head-up displays
017Head mounted
0176characterised by mechanical features
G02B 5/1814
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
1814structurally combined with one or more further optical elements, e.g. lenses, mirrors, prisms or other diffraction gratings
G02B 5/1852
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
1847Manufacturing methods
1852using mechanical means, e.g. ruling with diamond tool, moulding
G02B 5/1857
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
1847Manufacturing methods
1857using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
Déposants
  • FACEBOOK TECHNOLOGIES, LLC [US]/[US]
Inventeurs
  • COLBURN, Matthew, E.
  • CALAFIORE, Giuseppe
  • LEIBOVICI, Matthieu, Charles Raoul
  • MOHANTY, Nihar, Ranjan
Mandataires
  • THOMAS, Daniel, A.
  • MOON, William, A.
Données relatives à la priorité
15/960,30823.04.2018US
Langue de publication Anglais (en)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) GRATINGS WITH VARIABLE DEPTHS FOR WAVEGUIDE DISPLAYS
(FR) RÉSEAUX À PROFONDEURS VARIABLES DESTINÉS À DES AFFICHEURS À GUIDE D'ONDES
Abrégé
(EN) A manufacturing system for fabricating self-aligned grating elements with a variable refractive index includes a patterning system, a deposition system, and an etching system. The manufacturing system performs a lithographic patterning of one or more photoresists to create a stack over a substrate. The manufacturing system performs a conformal deposition of a protective coating on the stack. The manufacturing system performs a deposition of a first photoresist of a first refractive index on the protective coating. The manufacturing system performs a removal of the first photoresist to achieve a threshold value of first thickness. The manufacturing system performs a deposition of a second photoresist of a second refractive index on the first photoresist. The second refractive index is greater than the first refractive index. The manufacturing system performs a removal of the second photoresist to achieve a threshold value of second thickness to form a portion of an optical grating.
(FR) La présente invention porte sur un système de fabrication permettant de fabriquer des éléments de réseau auto-alignés ayant un indice de réfraction variable, comprenant un système de formation de motifs, un système de dépôt et un système de gravure. Le système de fabrication est destiné : à former des motifs lithographiques d'une ou plusieurs photorésines afin de créer un empilement sur un substrat ; à effectuer un dépôt conforme d'un revêtement protecteur sur l'empilement ; à déposer une première résine photosensible d'un premier indice de réfraction sur le revêtement protecteur ; à éliminer la première résine photosensible de manière à obtenir une valeur seuil de première épaisseur ; à déposer une seconde résine photosensible d'un second indice de réfraction sur la première résine photosensible, le second indice de réfraction étant supérieur au premier indice de réfraction ; et à éliminer la seconde résine photosensible de manière à obtenir une valeur seuil de seconde épaisseur de façon à former une partie d'un réseau optique.
Documents de brevet associés
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