(EN) A manufacturing system for fabricating self-aligned grating elements with a variable refractive index includes a patterning system, a deposition system, and an etching system. The manufacturing system performs a lithographic patterning of one or more photoresists to create a stack over a substrate. The manufacturing system performs a conformal deposition of a protective coating on the stack. The manufacturing system performs a deposition of a first photoresist of a first refractive index on the protective coating. The manufacturing system performs a removal of the first photoresist to achieve a threshold value of first thickness. The manufacturing system performs a deposition of a second photoresist of a second refractive index on the first photoresist. The second refractive index is greater than the first refractive index. The manufacturing system performs a removal of the second photoresist to achieve a threshold value of second thickness to form a portion of an optical grating.
(FR) La présente invention porte sur un système de fabrication permettant de fabriquer des éléments de réseau auto-alignés ayant un indice de réfraction variable, comprenant un système de formation de motifs, un système de dépôt et un système de gravure. Le système de fabrication est destiné : à former des motifs lithographiques d'une ou plusieurs photorésines afin de créer un empilement sur un substrat ; à effectuer un dépôt conforme d'un revêtement protecteur sur l'empilement ; à déposer une première résine photosensible d'un premier indice de réfraction sur le revêtement protecteur ; à éliminer la première résine photosensible de manière à obtenir une valeur seuil de première épaisseur ; à déposer une seconde résine photosensible d'un second indice de réfraction sur la première résine photosensible, le second indice de réfraction étant supérieur au premier indice de réfraction ; et à éliminer la seconde résine photosensible de manière à obtenir une valeur seuil de seconde épaisseur de façon à former une partie d'un réseau optique.
