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1. WO2019208503 - COMPOSÉ D'ÉTHER CONTENANT DU FLUOR, COMPOSITION CONTENANT CELUI-CI, SOLUTION DE REVÊTEMENT ET PRODUIT

Numéro de publication WO/2019/208503
Date de publication 31.10.2019
N° de la demande internationale PCT/JP2019/017038
Date du dépôt international 22.04.2019
CIB
C08G 65/336 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
GCOMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
65Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison éther dans la chaîne principale de la macromolécule
02à partir d'éthers cycliques par ouverture d'un hétérocycle
32Polymères modifiés par post-traitement chimique
329avec des composés organiques
336contenant du silicium
C07F 7/18 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
FCOMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
7Composés contenant des éléments des groupes 4 ou 14 de la classification périodique
02Composés du silicium
08Composés comportant une ou plusieurs liaisons C-Si
18Composés comportant une ou plusieurs liaisons C-Si ainsi qu'une ou plusieurs liaisons C-O-Si
C09D 171/00 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
09COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
DCOMPOSITIONS DE REVÊTEMENT, p.ex. PEINTURES, VERNIS OU VERNIS-LAQUES; APPRÊTS EN PÂTE; PRODUITS CHIMIQUES POUR ENLEVER LA PEINTURE OU L'ENCRE; ENCRES; CORRECTEURS LIQUIDES; COLORANTS POUR BOIS; PRODUITS SOLIDES OU PÂTEUX POUR COLORIAGE OU IMPRESSION; EMPLOI DE MATÉRIAUX À CET EFFET
171Compositions de revêtement à base de polyéthers obtenus par des réactions créant une liaison éther dans la chaîne principale; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
C09K 3/18 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
09COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
KSUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3Substances non couvertes ailleurs
18à appliquer sur des surfaces pour y minimiser l'adhérence de la glace, du brouillard ou de l'eau; Substances antigel ou provoquant le dégel pour application sur des surfaces
CPC
C07F 7/18
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
7Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
02Silicon compounds
08Compounds having one or more C—Si linkages
18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
C08G 65/336
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
65Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
02from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
32Polymers modified by chemical after-treatment
329with organic compounds
336containing silicon
C09D 171/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
171Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain
C09K 3/18
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
3Materials not provided for elsewhere
18for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto
Déposants
  • AGC株式会社 AGC INC. [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 松浦 啓吾 MATSUURA Keigo
  • 村田 浩一 MURATA Koichi
  • 古川 豊 FURUKAWA Yutaka
  • 星野 泰輝 HOSHINO Taiki
  • 宇野 誠人 UNO Makoto
  • 安樂 英一郎 ANRAKU Eiichiro
Mandataires
  • 特許業務法人T.S.パートナーズ T.S. PARTNERS
  • 泉名 謙治 SENMYO Kenji
  • 小川 利春 OGAWA Toshiharu
  • 金 鎭文 KIM Jin-Moon
  • 比企野 健 HIKINO Ken
  • 横井 大一郎 YOKOI Daiichiro
Données relatives à la priorité
2018-08549326.04.2018JP
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) FLUORINE-CONTAINING ETHER COMPOUND, COMPOSITION CONTAINING SAME, COATING SOLUTION, AND PRODUCT
(FR) COMPOSÉ D'ÉTHER CONTENANT DU FLUOR, COMPOSITION CONTENANT CELUI-CI, SOLUTION DE REVÊTEMENT ET PRODUIT
(JA) 含フッ素エーテル化合物、それを含む組成物、コーティング液及び物品
Abrégé
(EN) Provided is a fluorine-containing ether compound, with which it is possible to form a surface layer having excellent abrasion resistance and fingerprint dirt removal characteristics comparable to the prior art, and further having excellent light resistance in comparison with the prior art. This fluorine-containing ether compound comprises a polyfluoropolyether chain and a group represented by X, said compound preferably being represented by (G1-)tQ1(-X)s or (X-)sQ2-G2-Q2(-X)s [where G1 is a monovalent polyfluoropolyether chain, G2 is a divalent polyfluoropolyether chain, Q1 is an organic group having a valence of s+t, Q2 is an organic group having a valence of s+1, s is an integer greater than or equal to 1, t is an integer greater than or equal to 1, X is -Si(R1)3-a[-(OSi(R2)2)b-O-Si(R3)3-c(L)c]a, R1 is an alkyl group, R2 is an alkyl group or the like, R3 is an alkyl group, L is a hydrolysable group or a hydroxyl group, a is 2 or 3, b is an integer from 0 to 5, and c is 2 or 3].
(FR) L'invention concerne un composé d'éther contenant du fluor, avec lequel il est possible de former une couche de surface présentant une excellente résistance à l'abrasion et d'excellentes caractéristiques d'élimination de saleté de traces de doigts comparables à l'état de la technique, et présentant en outre une excellente résistance à la lumière par comparaison à l'état de la technique. Ce composé d'éther contenant du fluor comprend une chaîne polyfluoropolyéther et un groupe représenté par X, ledit composé étant de préférence représenté par (G1-)tQ1(-X)s ou (X-)sQ2-G2-Q2(-X)s [dans lesquelles G1 représente une chaîne polyfluoropolyéther monovalente, G2 représente une chaîne polyfluoropolyéther divalente, Q1 représente un groupe organique ayant une valence de s + t, Q2 représente un groupe organique ayant une valence de s + 1, s représente un nombre entier supérieur ou égal à 1, t représente un nombre entier supérieur ou égal à 1, X représente -Si(R1)3-a[-(OSi(R2)2)b-O-Si(R3)3-c(L)c]a, R1 représente un groupe alkyle, R2 représente un groupe alkyle ou analogue, R3 représente un groupe alkyle, L représente un groupe hydrolysable ou un groupe hydroxyle, a vaut 2 ou 3, b représente un nombre entier de 0 à 5, et c vaut 2 ou 3].
(JA) 従来と同様に指紋汚れ除去性、耐摩擦性に優れ、従来に比べ耐光性が更に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物の提供。 ポリフルオロポリエーテル鎖及び下記Xで表される基を有し、好ましくは、(G-)(-X)又は(X-)-G-Q(-X)で表される、含フッ素エーテル化合物。但し、Gは1価のポリフルオロポリエーテル鎖、Gは2価のポリフルオロポリエーテル鎖、Qはs+t価の有機基、Qはs+1価の有機基、sは1以上の整数、tは1以上の整数、Xは-Si(R3-a[-(OSi(R-O-Si(R3-c(L)、Rはアルキル基であり、Rはアルキル基等、Rはアルキル基、Lは加水分解性基又は水酸基、aは2又は3、bは0~5の整数、cは2又は3である。
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