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Paramétrages

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1. WO2019149763 - DISPOSITIF DE DEPOT DE PARTICULES DE TAILLE NANOMETRIQUE SUR UN SUBSTRAT

Numéro de publication WO/2019/149763
Date de publication 08.08.2019
N° de la demande internationale PCT/EP2019/052272
Date du dépôt international 30.01.2019
CIB
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
82
NANOTECHNOLOGIE
Y
UTILISATION OU APPLICATIONS SPÉCIFIQUES DES NANOSTRUCTURES; MESURE OU ANALYSE DES NANOSTRUCTURES; FABRICATION OU TRAITEMENT DES NANOSTRUCTURES
30
Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p.ex. nanocomposites
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
04
Revêtement de parties déterminées de la surface, p.ex. au moyen de masques
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
06
caractérisé par le matériau de revêtement
14
Matériau métallique, bore ou silicium
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
317
pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
301
Dispositifs permettant aux faisceaux de passer d'une région à une autre région à pression différente
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
34
fonctionnant par pulvérisation cathodique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
49
Spectromètres pour particules ou tubes séparateurs de particules
02
Détails
04
Dispositions pour introduire ou extraire les échantillons devant être analysés, p.ex. fermetures étanches au vide; Dispositions pour le réglage externe des composants électronoptiques ou ionoptiques
B82Y 30/00 (2011.01)
C23C 14/22 (2006.01)
C23C 14/04 (2006.01)
C23C 14/14 (2006.01)
H01J 37/317 (2006.01)
H01J 37/301 (2006.01)
CPC
B82Y 40/00
C23C 14/044
C23C 14/14
C23C 14/22
C23C 14/228
H01J 2237/0451
Déposants
  • COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 25, rue Leblanc Bâtiment « Le Ponant D » 75015 PARIS, FR
Inventeurs
  • SUBLEMONTIER, Olivier; FR
  • ROUSSEAU, Youri; FR
  • PETIT, Christian; FR
  • MULLER, Christophe; FR
  • BILLARD, Alain; FR
  • BRIOIS, Pascal; FR
  • PERRY, Frédéric; FR
  • GASTON, Jean-Paul; FR
Mandataires
  • GEVERS & ORES; Immeuble Palatin 2 3 Cours du Triangle CS 80165 92939 Paris La Défense Cedex, FR
Données relatives à la priorité
185074430.01.2018FR
Langue de publication français (FR)
Langue de dépôt français (FR)
États désignés
Titre
(EN) DEVICE FOR DEPOSITING NANOMETRIC SIZED PARTICLES ONTO A SUBSTRATE
(FR) DISPOSITIF DE DEPOT DE PARTICULES DE TAILLE NANOMETRIQUE SUR UN SUBSTRAT
Abrégé
(EN)
A device (1) for coating a substrate (4) with nanometric sized particles, wherein the device (1) comprises: a plurality of means (2a, 2b, 2c, 2d), called production means, each able to produce a jet (3) of nanometric sized particles, each of said production means having a longitudinal axis, the production means being arranged so that the various longitudinal axes are parallel and oriented in a first direction (X) defining the direction of propagation of the jet and in the form of at least two columns (9, 10) offset from each other in a second direction (Y) orthogonal to the first direction (X), where the first column (9) and the second column (10) each comprise at least one production means, said at least one production means (2a, 2b, 2c, 2d) of the first column (9) also being offset relative to said at least one production means (2a, 2b, 2c, 2d) of the second column (10) in a third direction (Z) that is both orthogonal to the first direction (X) and to the second direction (Y).
(FR)
Dispositif (1) de revêtement de particules de taille nanométrique sur un substrat (4) dans lequel le dispositif (1) comprend: une pluralité de moyens (2a, 2b, 2c, 2d) dits de production aptes à produire chacun un jet (3) de particules de taille nanométrique, chacun desdits moyens de production présentant un axe longitudinal, les moyens de production étant agencés de sorte que les différents axes longitudinaux sont parallèles et orientés dans une première direction (X) définissant la direction de propagation du jet et sous la forme d'au moins deux colonnes (9, 10) décalées l'une par rapport à l'autre selon une deuxième direction (Y) orthogonale à la première direction (X) où la première colonne (9) et la deuxième colonne (10) comportent chacune au moins un moyen de production, ledit au moins un moyen (2a, 2b, 2c, 2d) de production de la première colonne (9) étant par ailleurs décalé par rapport audit au moins un moyen (2a, 2b, 2c, 2d) de production de la deuxième colonne (10) selon une troisième direction (Z) à la fois orthogonale à la première direction (X) et à la deuxième direction (Y).
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