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1. WO2019072727 - PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'EXPOSITION POUR L'EXPOSITION D'AU MOINS UNE PRÉSENTATION MÉMORISÉE SUR UN SUPPORT D'ENREGISTREMENT SENSIBLE À LA LUMIÈRE

Numéro de publication WO/2019/072727
Date de publication 18.04.2019
N° de la demande internationale PCT/EP2018/077246
Date du dépôt international 08.10.2018
CIB
G03F 9/00 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03B 27/53
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
27Photographic printing apparatus
32Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
52Details
53Automatic registration or positioning of originals with respect to each other or the photosensitive layer
G03F 7/2002
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
2002with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
G03F 7/2051
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
2051Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
G03F 7/70141
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70141Illumination system adjustment, alignment during assembly of illumination system
G03F 7/70383
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70375Imaging systems not otherwise provided for, e.g. multiphoton lithography; Imaging systems comprising means for converting one type of radiation into another type of radiation, systems comprising mask with photo-cathode
70383Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
G03F 9/00
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
9Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
Déposants
  • MIVA TECHNOLOGIES GMBH [DE]/[DE]
Inventeurs
  • PAGAN, Robin
Mandataires
  • PATENTANWÄLTE MAMMEL UND MASER
Données relatives à la priorité
10 2017 123 686.411.10.2017DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) VERFAHREN UND BELICHTUNGSEINRICHTUNG ZUR BELICHTUNG VON ZUMINDEST EINER GESPEICHERTEN DARSTELLUNG AUF EINEM LICHTEMPFINDLICHEN AUFZEICHNUNGSTRÄGER
(EN) METHOD AND EXPOSURE DEVICE FOR EXPOSING AT LEAST ONE STORED REPRESENTATION ON A LIGHT-SENSITIVE RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'EXPOSITION POUR L'EXPOSITION D'AU MOINS UNE PRÉSENTATION MÉMORISÉE SUR UN SUPPORT D'ENREGISTREMENT SENSIBLE À LA LUMIÈRE
Abrégé
(DE)
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Belichtung zunnindest einer gespeicherten Darstellung (21) auf einem lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger (14), mit einer Belichtungseinrichtung (11), welche auf einer Auflage (12) zumindest einen Aufzeichnungsträger (14) aufnimmt, mit zumindest einem Belichtungskopf (16, 17), der oberhalb der Auflage (12) entlang einer Führungsachse (18) in X-Richtung verfahren wird und die Führungsachse (18) und/oder die Auflage (12) in Y-Richtung verfahren werden, mit einer Steuerung, durch welche eine Verfahrbewegung des zumindest einen Belichtungskopfes (16, 17) zur Belichtung der zumindest einen Darstellung (21) des Aufzeichnungsträgers (14) und/oder des Aufzeichnungsträgers (14) angesteuert wird, wobei die Lage des Aufzeichnungsträgers (14) und/oder die Lage der zumindest einen Darstellung (21) auf dem Aufzeichnungsträger (14) mit zumindest einer linienförmigen Bilderfassungseinrichtung (25) erfasst wird, die sich zumindest teilweise in X-Richtung erstreckt.
(EN)
The invention relates to a method for exposing at least one stored representation (21) on a light-sensitive recording medium (14), comprising: an exposure device (11), which receives at least one recording medium (14) on a support (12); at least one exposure head (16, 17), which is moved above the support (12) along a guide axis (18) in the X direction, the guide axis (18) and/or the support (12) being moved in the Y direction; and a controller, by means of which a movement of the at least one exposure head (16, 17) for exposing the at least one representation (21) of the recording medium (14) and/or the recording medium (14) is controlled. The position of the recording medium (14) and/or the position of the at least one representation (21) on the recording medium (14) are/is detected by means of at least one linear image-capturing device (25), which extends at least partially in the X direction.
(FR)
L'invention concerne un procédé pour l'exposition au moins d'une présentation mémorisée (21) sur un support d'enregistrement sensible à la lumière (14) comprenant un dispositif d'exposition (11) qui comporte au moins un support d'enregistrement (14) sur une surface d'appui (12), comprenant au moins une tête d'exposition (16, 17) qui est déplacée dans la direction X le long d'un axe de guidage (18) au-dessus de la surface d'appui (12) et l'axe de guidage (18) et/ou la surface d'appui (12) sont déplacés dans la direction Y, comprenant une commande par laquelle est commandé un déplacement d'au moins une tête d'exposition (16, 17) pour l'exposition d'au moins une présentation (21) du support d'enregistrement (14) et/ou du support d'enregistrement (14), la position du support d'enregistrement (14) et/ou la position d'au moins une présentation (21) étant enregistrée sur le support d'enregistrement (14) avec au moins un dispositif de capture d'image linéaire qui s'étend au moins partiellement dans la direction X.
Également publié en tant que
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