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1. (WO2019068001) FABRICATION DE DISPOSITIFS À SUPERJONCTION LATÉRALE PAR ÉPITAXIE SÉLECTIVE
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N° de publication : WO/2019/068001 N° de la demande internationale : PCT/US2018/053572
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 28.09.2018
CIB :
H01L 21/20 (2006.01) ,H01L 29/06 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
20
Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p.ex. croissance épitaxiale
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
29
Dispositifs à semi-conducteurs spécialement adaptés au redressement, à l'amplification, à la génération d'oscillations ou à la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; Condensateurs ou résistances ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. jonction PN, région d'appauvrissement, ou région de concentration de porteurs de charges; Détails des corps semi-conducteurs ou de leurs électrodes
02
Corps semi-conducteurs
06
caractérisés par leur forme; caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
Déposants :
THE TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM [US/US]; 3369 Tamu College Station, TX 77843-3369, US
Inventeurs :
BABB, Michael, Everett; US
HARRIS, Harlan, Rusty; US
Mandataire :
GOPALAKRISHNAN, Lekha; US
MOON, William, Allen; US
MOORE, Stanley, R.; US
LOVELL, David, A.; US
THOMAS, Daniel, A.; US
UDOVICH, Samuel, A.; US
Données relatives à la priorité :
62/566,29029.09.2017US
Titre (EN) FABRICATION OF LATERAL SUPERJUNCTION DEVICES USING SELECTIVE EPITAXY
(FR) FABRICATION DE DISPOSITIFS À SUPERJONCTION LATÉRALE PAR ÉPITAXIE SÉLECTIVE
Abrégé :
(EN) A lateral superjunction includes a substrate layer, a selective epitaxy layer deposited on the substrate layer, a trench formed into the selective epitaxy layer to expose a portion of the substrate layer, a first layer of semiconductor deposited in the trench, a second layer of semiconductor deposited adjacent to the first layer, and a first end layer of semiconductor deposited adjacent to the first layer of semiconductor and a second end layer of semiconductor deposited adjacent to the second layer of semiconductor.
(FR) L'invention concerne une superjonction latérale comprenant une couche de substrat, une couche d'épitaxie sélective déposée sur la couche de substrat, une tranchée formée dans la couche d'épitaxie sélective pour exposer une partie de la couche de substrat, une première couche de semi-conducteur déposée dans la tranchée, une seconde couche de semi-conducteur déposée adjacente à la première couche, et une première couche d'extrémité de semi-conducteur déposée adjacente à la première couche de semi-conducteur et une seconde couche d'extrémité de semi-conducteur déposée adjacente à la seconde couche de semi-conducteur.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)