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1. (WO2019067923) SOLUTIONS DE DÉCAPAGE ET PROCÉDÉS D'UTILISATION DE SOLUTIONS DE DÉCAPAGE
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N° de publication : WO/2019/067923 N° de la demande internationale : PCT/US2018/053458
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 28.09.2018
CIB :
C11D 11/00 (2006.01) ,C11D 3/43 (2006.01) ,C11D 3/30 (2006.01) ,C11D 3/00 (2006.01) ,C11D 1/12 (2006.01) ,C11D 1/66 (2006.01) ,C11D 1/38 (2006.01) ,C11D 1/88 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
11
Méthodes particulières pour la préparation de compositions contenant des mélanges de détergents
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3
Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
43
Solvants
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3
Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
16
Composés organiques
26
contenant de l'azote
30
Amines; Amines substituées
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3
Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
1
Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifs; Emploi de ces composés comme détergents
02
Composés anioniques
12
Esters des acides sulfoniques ou de l'acide sulfurique; Leurs sels
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
1
Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifs; Emploi de ces composés comme détergents
66
Composés non ioniques
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
1
Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifs; Emploi de ces composés comme détergents
38
Composés cationiques
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
1
Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifs; Emploi de ces composés comme détergents
88
Ampholytes; Composés électriquement neutres
Déposants :
VERSUM MATERIALS US, LLC [US/US]; 8555 S. River Parkway Tempe, AZ 85284, US
Inventeurs :
GE, Jhih, Kuei; US
LEE, Yi-Chia; US
LIU, Wen Dar; US
KUO, Chi-Hsien; US
Mandataire :
NEAGLE, Damon, A.; US
Données relatives à la priorité :
16/144,71027.09.2018US
62/565,93929.09.2017US
Titre (EN) STRIPPER SOLUTIONS AND METHODS OF USING STRIPPER SOLUTIONS
(FR) SOLUTIONS DE DÉCAPAGE ET PROCÉDÉS D'UTILISATION DE SOLUTIONS DE DÉCAPAGE
Abrégé :
(EN) Stripping solutions that may replace an etching resist ashing process are provided. The stripping solutions are useful for fabricating circuits and/or forming electrodes and/or packaging/bumping applications on semiconductor devices for semiconductor integrated circuits with good photoresist removal efficiency and with low silicon oxide etch rate and low metal etch rates. Methods for their use are similarly provided. The preferred stripping agents contain polar aprotic solvent, water, hydroxylamine, corrosion inhibitor, quaternary ammonium hydroxide and optional surfactant. Further provided are integrated circuit devices and electronic interconnect structures prepared according to these methods.
(FR) L'invention concerne des solutions de décapage qui peuvent remplacer un processus de polissage humide de résine photosensible de gravure. Les solutions de décapage sont utiles pour fabriquer des circuits et/ou former des électrodes et/ou des applications d'emballage/formation de bossages sur des dispositifs à semi-conducteurs pour des circuits intégrés à semi-conducteurs avec une bonne efficacité d'élimination de résine photosensible et avec une faible vitesse de gravure d'oxyde de silicium et de faibles vitesses de gravure de métaux. L'invention concerne également des procédés pour leur utilisation. De préférence, les agents de décapage contiennent un solvant aprotique polaire, de l'eau, de l'hydroxylamine, un inhibiteur de corrosion, un hydroxyde d'ammonium quaternaire et un tensioactif facultatif. L'invention concerne en outre des dispositifs de circuits intégrés et des structures d'interconnexion électroniques préparés conformément à ces procédés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)