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1. (WO2019067809) SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR OPTIMISER UN PROCÉDÉ D'EXPOSITION LITHOGRAPHIQUE
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N° de publication : WO/2019/067809 N° de la demande internationale : PCT/US2018/053254
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 28.09.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 16 Jonspin Road Wilmington, MA 01887, US
Inventeurs :
DA SILVEIRA, Elvino; US
BEST, Keith, Frank; US
FITZGERALD, Wayne; FR
LU, Jian; US
SONG, Xin; US
DONAHER, J., Casey; US
MCLAUGHLIN, Christopher, J.; US
Mandataire :
WEINICK, Jeffrey, M.; US
Données relatives à la priorité :
62/565,94029.09.2017US
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR OPTIMIZING A LITHOGRAPHY EXPOSURE PROCESS
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR OPTIMISER UN PROCÉDÉ D'EXPOSITION LITHOGRAPHIQUE
Abrégé :
(EN) A method for correcting misalignments is provided. An alignment for each device of a group of devices mounted on a substrate is determined. An alignment error for the group of devices mounted on the substrate is determined based on the respective alignment for each device. One or more correction factors are calculated based on the alignment error. The alignment error is corrected based on the one or more correction factors.
(FR) L'invention concerne un procédé de correction de mauvais alignement. Un alignement pour chaque dispositif d'un groupe de dispositifs montés sur un substrat est déterminé. Une erreur d'alignement pour le groupe de dispositifs montés sur le substrat est déterminée sur la base de l'alignement respectif pour chaque dispositif. Un ou plusieurs facteurs de correction sont calculés sur la base de l'erreur d'alignement. L'erreur d'alignement est corrigée sur la base du ou des facteurs de correction.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)