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1. (WO2019067375) DÉTECTION ET MESURE DE DIMENSIONS DE STRUCTURES ASYMÉTRIQUES
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N° de publication : WO/2019/067375 N° de la demande internationale : PCT/US2018/052507
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 25.09.2018
CIB :
H01L 21/66 (2006.01) ,G01D 21/02 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
D
MESURE NON SPÉCIALEMENT ADAPTÉE À UNE VARIABLE PARTICULIÈRE; DISPOSITIONS NON COUVERTES PAR UNE SEULE DES AUTRES SOUS-CLASSES POUR MESURER PLUSIEURS VARIABLES; APPAREILS COMPTEURS À TARIFS; DISPOSITIONS POUR LE TRANSFERT OU LA TRANSDUCTION DE MESURE NON SPÉCIALEMENT ADAPTÉES À UNE VARIABLE PARTICULIÈRE; MESURES OU VÉRIFICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS
21
Mesures ou vérifications non prévues ailleurs
02
Mesure de deux ou plusieurs variables par des moyens non couverts par une seule autre sous-classe
Déposants :
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs :
ATKINS, Phillip R.; US
DAI, Qi; US
LEE, Lie-Quan Rich; US
Mandataire :
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M.N.; US
Données relatives à la priorité :
16/138,81321.09.2018US
62/564,11927.09.2017US
Titre (EN) DETECTION AND MEASUREMENT OF DIMENSIONS OF ASYMMETRIC STRUCTURES
(FR) DÉTECTION ET MESURE DE DIMENSIONS DE STRUCTURES ASYMÉTRIQUES
Abrégé :
(EN) Methods and systems for performing spectroscopic measurements of asymmetric features of semiconductor structures are presented herein. In one aspect, measurements are performed at two or more azimuth angles to ensure sensitivity to an arbitrarily oriented asymmetric feature. Spectra associated with one or more off-diagonal Mueller matrix elements sensitive to asymmetry are integrated over wavelength to determine one or more spectral response metrics. In some embodiments, the integration is performed over one or more wavelength sub-regions selected to increase signal to noise ratio. Values of parameters characterizing an asymmetric feature are determined based on the spectral response metrics and critical dimension parameters measured by traditional spectral matching based techniques.
(FR) La présente invention concerne des procédés et des systèmes permettant d'effectuer des mesures spectroscopiques d’éléments asymétriques de structures semi-conductrices. Selon un aspect, des mesures sont effectuées au niveau de deux ou plusieurs angles d'azimut pour garantir une sensibilité à un élément asymétrique orienté arbitrairement. Des spectres associés à un ou plusieurs éléments de matrice de Mueller hors diagonale sensibles à une asymétrie sont intégrés sur la longueur d'onde pour déterminer une ou plusieurs métriques de réponse spectrale. Dans certains modes de réalisation, l'intégration est effectuée sur une ou plusieurs sous-régions de longueur d'onde sélectionnées pour augmenter le rapport signal sur bruit. Des valeurs de paramètres caractérisant un élément asymétrique sont déterminées sur la base des métriques de réponse spectrale et des paramètres de dimension critique mesurés par des techniques basées sur une correspondance spectrale classique.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)