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1. (WO2019067323) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE CONTRÔLE DES DOSES MODULÉ PAR IMPULSIONS EN DURÉE
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N° de publication : WO/2019/067323 N° de la demande internationale : PCT/US2018/052246
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 21.09.2018
CIB :
H01L 21/67 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
Déposants :
LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway Fremont, California 94538, US
Inventeurs :
GREGOR, Mariusch; US
Mandataire :
WIGGINS, Michael D.; US
Données relatives à la priorité :
62/563,12926.09.2017US
62/590,81527.11.2017US
Titre (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR PULSE WIDTH MODULATED DOSE CONTROL
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE CONTRÔLE DES DOSES MODULÉ PAR IMPULSIONS EN DURÉE
Abrégé :
(EN) A substrate processing system for treating a substrate includes a manifold and a plurality of injector assemblies located in a processing chamber. Each of the plurality of injector assemblies is in fluid communication with the manifold and includes a valve including an inlet and an outlet. A dose controller is configured to communicate with the valve in each of the plurality of injector assemblies and adjust a pulse width supplied to the valve in each of the plurality of injector assemblies based on at least one of manufacturing differences between the valves in each of the plurality of injector assemblies and non-uniformities of the valves in each of the plurality of injector assemblies to cause a desired dose to be supplied from the valve in each of the plurality of injector assemblies.
(FR) On décrit un système de traitement de substrat qui comprend un collecteur et une pluralité d'ensembles injecteurs situés dans une chambre de traitement. Chaque ensemble injecteurs est en communication fluidique avec le collecteur et comporte une vanne munie d'une entrée et d'une sortie. Un dispositif de contrôle des doses est conçu pour communiquer avec la vanne dans chaque ensemble injecteurs, et ajuste une largeur d'impulsion appliquée à la vanne dans chaque ensemble injecteurs en fonction de différences de fabrication entre les vannes dans chaque ensemble injecteurs et/ou de non-uniformités des vannes dans chaque ensemble injecteurs pour assurer l'apport d'une dose souhaitée de la vanne à chaque ensemble injecteurs.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)