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1. (WO2019066994) INDUCTEURS INTÉGRÉS À UN SUBSTRAT UTILISANT UN DÉPÔT ADDITIF À HAUT DÉBIT DE MATÉRIAUX MAGNÉTIQUES HYBRIDES
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N° de publication : WO/2019/066994 N° de la demande internationale : PCT/US2017/054678
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 30.09.2017
CIB :
H01L 23/373 (2006.01) ,H01L 23/367 (2006.01) ,H01L 23/12 (2006.01) ,H01L 23/40 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
23
Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
34
Dispositions pour le refroidissement, le chauffage, la ventilation ou la compensation de la température
36
Emploi de matériaux spécifiés ou mise en forme, en vue de faciliter le refroidissement ou le chauffage, p.ex. dissipateurs de chaleur
373
Refroidissement facilité par l'emploi de matériaux particuliers pour le dispositif
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
23
Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
34
Dispositions pour le refroidissement, le chauffage, la ventilation ou la compensation de la température
36
Emploi de matériaux spécifiés ou mise en forme, en vue de faciliter le refroidissement ou le chauffage, p.ex. dissipateurs de chaleur
367
Refroidissement facilité par la forme du dispositif
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
23
Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
12
Supports, p.ex. substrats isolants non amovibles
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
23
Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
34
Dispositions pour le refroidissement, le chauffage, la ventilation ou la compensation de la température
40
Supports ou moyens de fixation pour les dispositifs de refroidissement ou de chauffage amovibles
Déposants :
BRAUNISCH, Henning [US/US]; US
EID, Feras [LB/US]; US
DOGIAMIS, Georgios C. [GR/US]; US
INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
BRAUNISCH, Henning; US
EID, Feras; US
DOGIAMIS, Georgios C.; US
Mandataire :
ROJO, Estiven; US
BRASK, Justin K.; US
AUYEUNG, Al; US
BERNADICOU, Michael A.; US
BLAIR, Steven R.; US
BLANK, Eric S.; US
COFIELD, Michael A.; US
DANSKIN, Timothy A.; US
HALEVA, Aaron S.; US
MAKI, Nathan R.; US
MARLINK, Jeffrey S.; US
MOORE, Michael S.; US
PARKER, Wesley E.; US
PUGH, Joseph A.; US
RASKIN, Vladimir; US
STRAUSS, Ryan N.; US
WANG, Yuke; US
YATES, Steven D.; US
SULLIVAN, Stephen G.; US
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SUBSTRATE INTEGRATED INDUCTORS USING HIGH THROUGHPUT ADDITIVE DEPOSITION OF HYBRID MAGNETIC MATERIALS
(FR) INDUCTEURS INTÉGRÉS À UN SUBSTRAT UTILISANT UN DÉPÔT ADDITIF À HAUT DÉBIT DE MATÉRIAUX MAGNÉTIQUES HYBRIDES
Abrégé :
(EN) An inductor in a device package and a method of forming the inductor in the device package are described. The inductor includes a first conductive layer disposed on a substrate. The inductor also has one or more hybrid magnetic additively manufactured (HMAM) layers disposed over and around the first conductive layer to form one or more via openings over the first conductive layer. The inductor further includes one or more vias disposed into the one or more via openings, wherein the one or more vias are only disposed on the portions of the exposed first conductive layer. The inductor has a dielectric layer disposed over and around the one or more vias, the HMAM layers, and the substrate. The inductor also has a second conductive layer disposed over the one or more vias and the dielectric layer.
(FR) L'invention concerne un inducteur dans un boîtier de dispositif et un procédé de formation de l'inducteur dans le boîtier de dispositif. L'inducteur comprend une première couche conductrice disposée sur un substrat. L'inducteur comprend également une ou plusieurs couches magnétiques hybrides de fabrication additive (HMAM) disposées sur et autour de la première couche conductrice pour former une ou plusieurs ouvertures d'interconnexion sur la première couche conductrice. L'inducteur comprend en outre un ou plusieurs trous d'interconnexion disposés dans l'une ou plusieurs ouvertures d'interconnexion, l'un ou plusieurs trous d'interconnexion étant uniquement disposés sur les parties de la première couche conductrice exposée. L'inducteur a une couche diélectrique disposée sur et autour de l'un ou plusieurs trous d'interconnexion, les couches HMAM et le substrat. L'inducteur comporte également une seconde couche conductrice disposée sur l'un ou plusieurs trous d'interconnexion et la couche diélectrique.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)